滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

IBM生产量子芯片时，使用的也是类似的“无损探针台”，这次我们也研发出来了，也就意味着在量子芯片上，被光刻机卡脖子的历史，再也不会出现了

按照中国科学院院士潘建伟的说法，未来几年，我们能够实现数百个乃至数千个量子比特的相干操纵，进而实现通用量子计算机

在硅基芯片制造中，光刻机是最重要的设备之一，它的总成本占全部设备成本的25%左右，光刻所需要的工时，占所有工时的30%左右

当然，光刻机重要，并不仅仅是因为它贵，而是因为能够生产它的企业不多，全球也就4家，分别是ASML，佳能，尼康，上海微电子

后来，ASML对EUV的限制出货也有些不满了，所以才会有了上边所说的这一段话

如今，美方对我们的芯片限制措施逐步收紧，又盯上了ASML的DUV光刻机，想要进一步扩大DUV出货限制

而ASML不能出货EUV给中企，就靠DUV来拓展市场了

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海阔天空 - Beyond.mp33:59来自科技强哥说来自荷兰的ASML，由一家小公司，逐步成长壮大，超过日本两大光刻机巨头尼康和佳能，成了全球光刻机领域的最大巨头，并且还独家垄断了最为先进的EUV光刻机

先锋的刻录机用过两台了，第一款是DVD刻录机用了好多年，后来升级成蓝光刻录机已经用了6年，刻录了快1000张蓝光盘还是很稳定，现在再买一台备用。非常可靠耐用的品牌。

ASML是全球唯一掌握最先进EUV光刻机的巨头 美国的对华芯片战早已打得热火朝天，但现在还在继续添柴，这就是进一步要求日本与荷兰加大对华芯片生产技术的制约

也就是说，美国凭借自己所掌握的技术，如EUV所使用的尖端光源，严令ASML从禁售EUV扩大到DUV，意图彻底阻断中国高端芯片自产

中国自主研发的紫外超分辨光刻机

做工很好，十年前买的先锋刻录机有点光头老化，再买一个用，完美，非常满意！京东物流就不用说了，快！光驱手感好，整体轻薄，使用时声音小，速度快，非常好用的一款！

研发出EUV光刻机

电子束直写光刻机

目前网络有一种声音，那就是我们必须自研出EUV光刻机，只要自研出EUV光刻机，ASML和美国就卡不住我们的脖子了，芯片就再也不用愁了

但真的自研出EUV光刻机，我们就能够制造出7nm芯片了么？在我看来，仅靠EUV光刻机，是远远不够的，还差得远呢

据悉日本已成功突破5nm工艺，这是在无需采用ASML的EUV光刻机情况下达到的，此前美国也有企业研发了无需EUV光科技的工艺，似乎ASML正陷入众叛亲离的局面

由于成本过于昂贵，台积电和三星研发的3nm工艺如今都面临无客户采用的问题，甚至有消息指苹果考虑到成本问题预计明年的A17处理器仍然采用成熟的4nm工艺而不是3nm工艺

日本和美国的芯片行业研发摆脱EUV光刻机的芯片制造工艺，在于采用EUV光刻机的芯片制造工艺成本实在太高了，用于7nm及以上工艺的DUV光刻机价格在3000-5000万美元，而第一代EUV光刻机价格达到1.2亿美元，第二代EUV光刻机价格达到4亿美元

即便如此，0.55 NA EUV 光刻机还是得到了芯片厂商的火热预购

毕竟，这是研发 2nm 工艺的芯片的必选项

在各大芯片厂商中，英特尔的速度最快

今年 1 月 19 日，英特尔向 ASML 订购了最新款高 NA EXE:5200 光刻机

专门咨询计算机的朋友选的这款，很好用，速度很快，也没什么噪音，价格也公道，京东送货也超快，不耽误时间，很满意！

先锋dvd刻录机，多年的老品牌，刻录光盘，读写光盘速度快，稳定性好。可以满足日常读取或者刻录dvd光盘的需要，产品包装对刻录机的保护也很到位，避免了运送途中磕碰对刻录机的伤害，价格也很便宜，是一款高性价比的刻录机。

未来比 3nm 更先进的工艺，将极度依赖高 NA EUV 光刻机

ASML 首席执行官 Peter Wennink 表示：在高 NA EUV 方面，我们取得了良好的进展，目前已经开始在我们位于维尔德霍芬的新无尘空间中打造第一个高 NA 光刻

读盘速度：非常快 读盘声音：有些大 稳定性能：不确定 轻薄程度：非常轻 外形外观：完美 产品包装：正品包装

用于大批量制造，以创建先进的微芯片（7 nm、5 nm 和 3 nm 节点）高度复杂的基础层，并支持新颖的晶体管设计和芯片架构

在第一季度，我们收到了多份 EXE:5200 系统的订单

我们这个月还收到额外的 EXE:5200 订单

我们目前已有来自三个逻辑芯片和两个存储芯片客户的高 NA 订单

EXE:5200 是 ASML 的下一代高 NA 系统，将为光刻技术的性能和生产力提供下一步的发展

物流很快，买完第二天就到了，现在已经刻了快50张光盘，无一失败，就是不知道能用多久，希望能多用几年

为什么要冲刺高 NA EUV 光刻机？光刻系统所能达到的分辨率是光刻收缩的主要驱动因素之一，它主要由所用光的波长和光学系统的数值孔径决定

众所周知，目前最顶尖的光刻机是ASML的EUV光刻机，能够制造3nm的芯片

且在ASML的规划中，到2024年或2025年会交付全新一代的High-NA极紫外光刻机

这种EUV光刻机，数值孔径变为0.55NA，也就是解析度（精度）为8nm，可以制造2nm，以及1.8nm的芯片

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当然，硅基芯片，也不需要这种电子束光刻机，这么高的精度更多还是用于量子计算芯片，制造出一些高精度的量子器件，纳米器材等

后来又是一家叫蔡斯（Zeiss）的德国公司把这个镜子做出来了——那应该是有史以来最光滑的物体，比詹姆斯·韦布太空望远镜的镜面还要光滑，号称你要是把镜子放大到整个德国那么大，其中凹凸不规则的部分，也只有1/10毫米

读盘速度：快，对办公用来说足够了 外形外观：颜值派很喜欢，有质感，简洁大方 轻薄程度：中等吧 稳定性能：陆陆续续买过一些先锋的产品，整体而言很耐用，使用无特殊状况。 产品包装：无破损，保护得当。物流也很快。 这不是一个好评模板，但也算是一个好评模板，买东西评价也是一个很有必要的事情，分享使用的的好与不好，为他人提供建议，可以做参考，自己每次买东西前也会浏览别人的评价，看完也会觉得更加踏实，卖家秀令人迷惑，买家秀才更为真实，也可以让我们冲动的时候冷静一下头脑，更清醒的考虑到底适不适合自己，还需要不需要买。