本来准备装电脑上的,结果发现机箱没有光驱位,索性加一个光驱盒,拿来当外置光驱,没想到速度还挺快的,声音很小,比较安静
还行,挺不错的,之前公司的让我弄坏了,自己买了一个赔给公司。测试了所有功能,一切正常。还有京东快递小哥一如既往很快,态度也很好,好评!
同样,根据2021年3月的公开记录而言,可以很容易判断目前可能还不具备规模量产的能力
因此需要重新调整重大专项的目标和组织模式,以产业发展的基础技术储备作为重点攻关,而不是致力于我前文所述的“复制型制造开发”模式
本来准备装电脑上的,结果发现机箱没有光驱位,索性加一个光驱盒,拿来当外置光驱,没想到速度还挺快的,声音很小,比较安静
还行,挺不错的,之前公司的让我弄坏了,自己买了一个赔给公司。测试了所有功能,一切正常。还有京东快递小哥一如既往很快,态度也很好,好评!
同样,根据2021年3月的公开记录而言,可以很容易判断目前可能还不具备规模量产的能力
因此需要重新调整重大专项的目标和组织模式,以产业发展的基础技术储备作为重点攻关,而不是致力于我前文所述的“复制型制造开发”模式
噪音不大,刻录速度也很快,做工很精细,非常好,买一个放在手边刻盘很方便,美中不足没有赠送保护包,携带有些不方便。
读盘速度:很快哦 读盘声音:很小哦,静音呢 轻薄程度:一般哦 外形外观:很靓哦,总体满意
读盘速度:读盘速度很快,并且很稳定。 读盘声音:声音有一些读盘机械转动的声音不是很大。 稳定性能:性能稳定可靠。大品牌的东西一直在用。 轻薄程度:台式机装机内置光驱的性价比最高的大品牌经典产品。是标准内置光驱的大小。 外形外观:金属外观,结构结实。 产品包装:产品包装牢固可靠完好。内置减震泡沫,防止磕碰。新款产品外包装印刷图案区别于老款。
ASML当时还在生存线上挣扎,听闻了台积电的林本坚研发出光刻机技术之后找上了台积电,双方一拍即合,随后浸润式光刻机迅速风行,到2008年ASML一跃成为全球最大的光刻机企业
不过光刻机市场相当大,ASML依靠浸润式光刻机并未能完全垄断光刻机市场,佳能、尼康依然占有近四成的市场份额,Intel都仍然从佳能、尼康采购光刻机,证明日本的光刻机仍然具有一定的竞争优势
由于众所周知的原因,ASML无法对中国出手最先进的EUV光刻机,而在当前用于成熟工艺的DUV光刻机市场,佳能和尼康都有一战之力,早前美国又要求ASML不得对中国出手14nm以下的DUV光刻机,ASML照单全收,中国方面没有说话但是却通过招标表达了意见,中国芯片行业并非只能采用ASML的光刻机
同样,根据2021年3月的公开记录而言,可以很容易判断目前可能还不具备规模量产的能力
因此需要重新调整重大专项的目标和组织模式,以产业发展的基础技术储备作为重点攻关,而不是致力于我前文所述的“复制型制造开发”模式
2,在未来十年的新技术上,目前全球仅ASML具有条件进行未来十年的2nm至5A的相关研究;这是建立在其过去十年的EUV光刻机垄断式发展基础上建立的垄断式发展优势
物流很快,东西也不错。。。目前读盘很好,刻录还没有用呢,手头没有空白盘。。还是内置的刻录机稳定速度快。。。非常好用 看了说明书就知道了 操作简便易学 非常好用 看了说明书就知道了 操作简便易学
中国准分子激光DUV光刻光源测试原始记录关于国产DUV光刻光源的考证原文:解读中国28nm光刻机(一):深紫外DUV光刻机光源的曙光结语在上述关于光刻机代差分析里,我们剥离出未来十年的2代代差和过去十年的3代代差,而这正对应于我国的光刻机研发工作的针对目标:1,在过去十年的既有技术上的突破,显而易见,自2019年开始国际形势突变之后,我们不再具有轻易获得西方的成熟技术、并依托其上进行迭代式发展的模式
物美价廉,性价比高,下次还买了,读盘速度:非常块读盘声音:非常小稳定性能:稳定性能:非常 稳定
送货非常快,上次买了刻录光盘,这次配套购买刻录机,先锋经典老品牌,支持DVD/CD读写,是数据备份,影音,学习的好帮手。
中国准分子激光DUV光刻光源测试原始记录关于国产DUV光刻光源的考证原文:解读中国28nm光刻机(一):深紫外DUV光刻机光源的曙光结语在上述关于光刻机代差分析里,我们剥离出未来十年的2代代差和过去十年的3代代差,而这正对应于我国的光刻机研发工作的针对目标:1,在过去十年的既有技术上的突破,显而易见,自2019年开始国际形势突变之后,我们不再具有轻易获得西方的成熟技术、并依托其上进行迭代式发展的模式
2022-2032年的极紫外EUV光刻机代差在2022年6月底披露的资料中,IMEC公布了更新的未来十年的半导体工艺节点的规划,其中明确了两代EUV光刻技术代差:1,2023-2026年,将以NA0.33 EUV光刻机的多重曝光方式量产2纳米和A14(14Å)节点;2,2026-2032年,将以高NA0.55的EUV光刻机量产A10、A7、A5节点
这款光源对应上图的位置是1994年
当然,我们不能把1994年当作技术差距的时间点
例如不排除同步开发的193nm的ArFDUV光源也已经进入光刻机厂商的测试环节;亦即达到193nm浸没式光刻水平,那么对应上图的位置是2005年左右
读盘速度:读盘速度快,我喜欢。读盘声音:声音也不大,不像二手的。稳定性能:性能也很稳定。非常好用,以前不能读取的光盘现在可以了。刻录功能是我的首先。还没试,稍后有空再操作!
稳定性能:非常稳定 读盘速度:速度快 读盘声音:无噪音 外形外观:精致美观 轻薄程度:轻薄
先锋的刻录机非常好,老品牌了,以前就经常使用,质量好,价格实惠,非常满意,快递非常快!
中国准分子激光DUV光刻光源测试原始记录关于国产DUV光刻光源的考证原文:解读中国28nm光刻机(一):深紫外DUV光刻机光源的曙光结语在上述关于光刻机代差分析里,我们剥离出未来十年的2代代差和过去十年的3代代差,而这正对应于我国的光刻机研发工作的针对目标:1,在过去十年的既有技术上的突破,显而易见,自2019年开始国际形势突变之后,我们不再具有轻易获得西方的成熟技术、并依托其上进行迭代式发展的模式
中国准分子激光DUV光刻光源测试原始记录关于国产DUV光刻光源的考证原文:解读中国28nm光刻机(一):深紫外DUV光刻机光源的曙光结语在上述关于光刻机代差分析里,我们剥离出未来十年的2代代差和过去十年的3代代差,而这正对应于我国的光刻机研发工作的针对目标:1,在过去十年的既有技术上的突破,显而易见,自2019年开始国际形势突变之后,我们不再具有轻易获得西方的成熟技术、并依托其上进行迭代式发展的模式
同样,根据2021年3月的公开记录而言,可以很容易判断目前可能还不具备规模量产的能力
因此需要重新调整重大专项的目标和组织模式,以产业发展的基础技术储备作为重点攻关,而不是致力于我前文所述的“复制型制造开发”模式
2,在未来十年的新技术上,目前全球仅ASML具有条件进行未来十年的2nm至5A的相关研究;这是建立在其过去十年的EUV光刻机垄断式发展基础上建立的垄断式发展优势
很显然,这两次迭代,将使得摩尔定律被延长至2032年
在中文舆论里,前者便是铺天盖地的所谓“28nm”光刻机;后者便是所谓“7nm”光刻机
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