读盘速度:读盘速度快,我喜欢。读盘声音:声音也不大,不像二手的。稳定性能:性能也很稳定。非常好用,以前不能读取的光盘现在可以了。刻录功能是我的首先。还没试,稍后有空再操作!
稳定性能:非常稳定 读盘速度:速度快 读盘声音:无噪音 外形外观:精致美观 轻薄程度:轻薄
先锋的刻录机非常好,老品牌了,以前就经常使用,质量好,价格实惠,非常满意,快递非常快!
中国准分子激光DUV光刻光源测试原始记录关于国产DUV光刻光源的考证原文:解读中国28nm光刻机(一):深紫外DUV光刻机光源的曙光结语在上述关于光刻机代差分析里,我们剥离出未来十年的2代代差和过去十年的3代代差,而这正对应于我国的光刻机研发工作的针对目标:1,在过去十年的既有技术上的突破,显而易见,自2019年开始国际形势突变之后,我们不再具有轻易获得西方的成熟技术、并依托其上进行迭代式发展的模式
2022-2032年的极紫外EUV光刻机代差在2022年6月底披露的资料中,IMEC公布了更新的未来十年的半导体工艺节点的规划,其中明确了两代EUV光刻技术代差:1,2023-2026年,将以NA0.33 EUV光刻机的多重曝光方式量产2纳米和A14(14Å)节点;2,2026-2032年,将以高NA0.55的EUV光刻机量产A10、A7、A5节点
物流很快,宝贝很好,店家人nice!好评!宝贝质量不错,很喜欢。卖家服务真周到。特意用了两天才来评价。老品牌刻录机,做工精细,外观很有质感,包装严实,声音小,不挑盘。京东送货速度快,售后有保障。
老牌子,收到货后就装机了,和主机很匹配,办公用方便,主要用于看资料和刻资料盘。 然后试用了一下,运行速度快,安静。 先锋刻录机真的很不错,价格也实惠。 产品包装的很好,比较满意,有需要的值得购买!尤其办公使用,很好。
这款光源对应上图的位置是1994年
当然,我们不能把1994年当作技术差距的时间点
例如不排除同步开发的193nm的ArFDUV光源也已经进入光刻机厂商的测试环节;亦即达到193nm浸没式光刻水平,那么对应上图的位置是2005年左右
极紫外EUV光刻机代差详解:2010-2032年台积电有几台光刻机
编者按:公众比较熟悉的光刻机代差是基于193纳米光刻光源的干式DUV和浸液式DUV
而浸液式DUV光刻,可以通过多次曝光获得7纳米节点的能力
明确这些技术代差,有助于讨论和思考我国的光刻机发展方式和组织模式
第一台高NA光刻机EXE:5000将在IMEC和ASML的联合实验室安装1990-2020年的光刻机代差从1990-2030年的半导体发展路径图上,我们可以看到大致上,2005-2019年经历了两个主要代差:1,浸液式DUV光刻(2007-2012年);2,浸液式多重曝光DUV光刻(2012-2019年);3,NA0.33EUV光刻机(2011-2020年)
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大品牌的外置光驱,一直都用这个牌子。从前的内置光驱也是一样。主要是性能稳定,耐用。刻录光盘很少报废,速度很快。现在新电脑都很少配置光驱,买他就很方便。
读盘速度:快, 外形外观:漂亮 读盘声音:很轻 稳定性能:目前使用稳定性好 产品包装:包装精致