滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

读盘速度：读盘速度非常快，即插即用读盘声音：声音小。临时要用，上午下单京东下午就送到了，非常方便。但凡装机几乎必选先锋光驱，用了很多年了，质量一直都很稳定。话说包装设计得蛮漂亮的

和联想办公电脑完美兼容。刻录光驱所用CD-R(即英文的***pact Disc Recordable)盘的容量一般为700**.它上面所记载资料的方式与一般CD光盘片是一样的，也是利用激光束的反射来读取资料，所以CD-R盘片可以放在CD-ROM上读取，不同的是CD-R盘可以写一次。这次买的先锋老品牌，和Nero10.0软件完美兼容，非常稳定，快。价格也很便宜，性价比非常之好了。

办公需要刻录光盘做数据保存，这款读盘能力很强，速度很快，震动不大，有轻微的声音，日常使用基本上不会察觉到；刻录写入时比18x的要快不少，过程很稳定，不会出现数据错误或者写完读不出的情况，购买时还赠送sata数据线，很方便。

大品牌，质量很好，性价比很高，安装使用方便，读写速度很快，光盘质量好的时候声音很好，使用有的光盘时候有较大声音。

同样，根据2021年3月的公开记录而言，可以很容易判断目前可能还不具备规模量产的能力

因此需要重新调整重大专项的目标和组织模式，以产业发展的基础技术储备作为重点攻关，而不是致力于我前文所述的“复制型制造开发”模式

外观好看，经济实用 品质优良， 结实耐用，价格实惠，使用满意，特别好用，非常棒，名牌，质量很好，拷贝静音，值得推荐。

携带方便功能强很好用，读碟广泛很好的刻录机。读盘声音：小产品包装：严实稳定性能：稳定外形外观：好读盘速度：很快轻薄程度：适中

所以如果有人解读中国已经有每小时曝光10-20晶圆的EUV原型机，它大概率是把DUV当作了EUV

而第二代MET工具通常命名为MET-5，它经常出现在我的帖子里

美国加州劳伦斯伯克利实验室的MET-5极紫外曝光系统国内关于长春光机所的MET资料有限，我们不妨拿2005年的美国加州劳伦斯伯克利实验室的MET工具的性能做一个参照

很显然，这两次迭代，将使得摩尔定律被延长至2032年

在中文舆论里，前者便是铺天盖地的所谓“28nm”光刻机；后者便是所谓“7nm”光刻机

半导体产业40年的发展路径经严格考证的国产光刻机光源进度而在我2021年10月份的考证里，国产DUV光源的测试计划是248nm的KrF DUV激光器，因此实际上这一款激光器并没有进入批量生产的阶段

2005年美国加州劳伦斯伯克利实验室的NA0.3的MET工具因此，从这一非常具体的实例来作为比较，并且只从曝光工具的单一指标（我们忽略系统性工作能力、技术储备、制造工具储备等）而言，我们在2017年的02专项极紫外曝光光学的验收成果，接近2005年劳伦斯伯克利实验室的NA0.3的MET工具的曝光线宽

更令人注意的是一项2018年1月至2021年9月的新项目：六镜极紫外光刻投影物镜研发与验证, 参与, 国家任务, 2018-01--2021-09王丽萍教授的极紫外光刻研究活动值得注意的是，与上述六镜极紫外光刻投影物镜开发项目同时同期开展的，还有一个国家项目“极紫外光刻机核心子系统关键技术攻关”

极紫外光刻研究的4个阶段在谈六镜极紫外光刻投影物镜之前，有必要回顾EUV光刻机发展历史，简而言之，在德国蔡司长达30年的极紫外EUV光学研究历史里，有4个里程碑的阶段，包括：1，2003年之前的两镜头曝光装置（MET）；2，2006年的六镜头EUV演示工具（ADT）；3，2009年的第一代六镜头 NA0.33 EUV光刻机；4，明年即将推出的第二代六镜头 NA0.55 EUV光刻机

曝光系统被置于真空罩中

在这个系统里，最核心的投影光学部分（MET projection optic）主要涉及超高精度非球面加工与检测、极紫外多层膜、投影物镜系统集成测试等关键技术，而这些也是长春光机所02专项的核心工作

在京东买过好多次刻录机，因为用的比较频繁，最满意的就是京东的售后，电子产品一般都会在京东购买。在电子产品这方面，京东是体验最好的网站没有之一。

同样，根据2021年3月的公开记录而言，可以很容易判断目前可能还不具备规模量产的能力

因此需要重新调整重大专项的目标和组织模式，以产业发展的基础技术储备作为重点攻关，而不是致力于我前文所述的“复制型制造开发”模式

中国准分子激光DUV光刻光源测试原始记录关于国产DUV光刻光源的考证原文：解读中国28nm光刻机（一）:深紫外DUV光刻机光源的曙光结语在上述关于光刻机代差分析里，我们剥离出未来十年的2代代差和过去十年的3代代差，而这正对应于我国的光刻机研发工作的针对目标：1，在过去十年的既有技术上的突破，显而易见，自2019年开始国际形势突变之后，我们不再具有轻易获得西方的成熟技术、并依托其上进行迭代式发展的模式

这款光源对应上图的位置是1994年

当然，我们不能把1994年当作技术差距的时间点

长光所 极紫外光刻机

而在精度方面，90nm肯定没问题的，同时经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以达到22nm左右的水平

那么能不能四次曝光，五次曝光，将精度提升上去？事实上，在实际使用中，2次曝光就已经很厉害了，像ASML等的光刻机 ，大多也只是进行2次曝光

“光刻机”被称之为传统芯片制造的工业母机，因为它必不可少，同时光刻机的好坏，精度，决定了芯片的精度、良率等等

美国加州劳伦斯伯克利实验室CXRO主任值得一提的是，2005年发表这篇论文的帕特里克·诺洛（Patrick Naulleau）当年是纽约州立大学的副教授，他现在是加州劳伦斯伯克利实验室CXRO的主管，CXRO实验室正在为下一代NA0.55 光刻机开发关键配套材料

因为发现别的品牌读盘能力都有不足，选了很多款，最终发现还是先锋的适应性更好！买了，确实不错！之后再买，就这个牌子了，店家发货很快，收藏店家，以后常来！

中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源国内生产光刻机的企业有哪些