美国加州劳伦斯伯克利实验室CXRO主任值得一提的是，2005年发表这篇论文的帕特里克·诺洛（Patrick Naulleau）当年是纽约州立大学的副教授，他现在是加州劳伦斯伯克利实验室CXRO的主管，CXRO实验室正在为下一代NA0.55 光刻机开发关键配套材料
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中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源国内生产光刻机的企业有哪些
两镜头光学到六镜头光学系统的差距如前文所述，德国蔡司2003年推出两镜头EUV光学系统后，3年内推出了六镜头的ADT验证机
所以，蔡司的MET光学并非欧洲的光学制造能力的上限，而长春光机所的MET曝光工具则是在采购了欧洲先进制造工具、设计工具基础之上，几乎代表了中国当时在EUV研发上的能力上限
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2005年美国加州劳伦斯伯克利实验室的NA0.3的MET工具因此，从这一非常具体的实例来作为比较，并且只从曝光工具的单一指标（我们忽略系统性工作能力、技术储备、制造工具储备等）而言，我们在2017年的02专项极紫外曝光光学的验收成果，接近2005年劳伦斯伯克利实验室的NA0.3的MET工具的曝光线宽
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2005年论文：美国加州伯克利劳伦斯实验室的NA0.3的MET工具在这篇论文里，我们可以清晰的看到MET工具CAD模型，它主要包括两个部分：1，从上部的同步辐射光源系统（From synchorotron）经过一个扫描单元传递至曝光装置；它相当于EUV光刻机的EUV光源系统；2，MET曝光系统主要包括从上到下的4个部分：光罩台、投影光学系统、晶圆台、照明台
编者按：2021年12月30日，长春光机所依托02专项极紫外光刻研究团队，在深圳国资委资助下，合作成立了一家新企业：长光集智光学科技有限公司
长春光机所研发团队持股20%，而第二大自然人股东--王丽萍教授，便是今天故事的主角