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光刻机_雕刻机_曝光系统

全球三大光刻机特点,已经实际应用

全球三大光刻机特点,已经实际应用

回国之后就想着购置一台主流的台式机,平时偶尔玩玩游戏,同时需要能满足某些诸如Photoshop,Matlab等专业性的需求,无奈品牌机很少能两者兼顾,性价比也不是很高,于是萌发出自行组装的想法。趁着这次京东618活动,一次性买齐所有组件,全部是京东自营购入,主要也是看重正品及售后保障。主机的配置如下:Intel i7 8700 + 微星B360M迫击炮 + 微星GTX1650 + 威刚内存(8G*2 DDR4 3000)+ Intel 760P SSD 256G + Seagate HDD 1** + 先锋DVD光驱 + 先马机箱电源600W + 飞利浦显示屏。Intel i7 8700性能十分强劲,SSD能够使机器实现秒开,与之前笔记本的对比还是相当明显的;微星主板一如既往地可靠,迫击炮这款可谓是短小精悍,接口齐全,之所以选择GTX1650,也是兼顾成本与实际需求,虽说比不上国际3A大作特效全开,但是应付古剑三等还是绰绰有余;希捷硬盘值得信赖,2.5寸的已经入手好几块,十分便捷;先马的机箱内部空间相当大,走背线完全没问题,考虑到以后可能的升级,电源选择600W全模组,用到目前相当稳定;复古式机箱搭配Pioneer光驱,以前的光碟也完全可以应付。另外,尽管是618,各个自营店的物流速度相当快,这次的购机体验很好!很满意!

它的验收成功,也标志着我国研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备,具有重大意义

因为,超分辨率光刻机与ASML光刻机采用了完全不同的技术路线

ASML最出名的当属EUV光刻机和DUV光刻机

EUV指的是极紫外光,它可以制造7nm以下的芯片,使用的是13.5nm波长光源

2012年,中国科学院光电技术研究所承担了超分辨光刻装备的研制任务,经过近7年艰苦攻关,在无国外成熟经验可借鉴的情况下,突破了高均匀性照明、超分辨光刻镜头纳米级分辨力检焦及间隙测量和超精密、多自由度工件台及控制关键技术,其采用365纳米波长光源,单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米

我们国家在4年前,曾经研制出一种特别的光刻机,但是很少有人知道,它的名字叫超分辨率光刻机,这台光刻机可是哟经365nm波长实现22nm工艺制程,通过多重曝光等手段,还可以实现10nm以下的工艺制程

在此基础上,项目组还结合超分辨光刻装备项目开发的高深宽比刻蚀、多重图形等配套工艺,未来能够实现10纳米以下特征尺寸图形的加工

另一个DUV光刻机,可以制造7nm以上的芯片,其中的DUV是深紫外光的意思,使用193nm波长的光源

所以很明显,我们的超分辨率光刻机的光源波长,要比他们大很多,这是因为技术原理上的差异导致的

超分辨率光刻机的工作原理是这样的,它采用表面等离子体超分辨光刻(surface plasma),也叫表面等离子超衍射光刻,是最近十几年兴起的一种新技术

全球三大光刻机特点

流畅速度快,全新,非常实用,京东物流就是快 先锋刻录光驱多次买了 好用 性价比超高 good

总之,这款表面等离子体超分辨光刻装备的成功研发打破传统光刻机的路线格局,形成一条全新的纳米光学光刻技术路线,绕开了国外相关领域的技术壁垒,具有完全自主知识产权,其关键技术指标达到超分辨成像光刻领域的国际领先水平

已经实际应用

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