上世纪我国第一颗原子弹爆炸成功之后,世界为之震惊,国人也为此自豪
如今时过境迁,在岁月洪流的推动之下,出现了一种比原子弹还稀有的东西,它就是光刻机,其制造难度属于“地狱级别”
为什么光刻机如此难造?因此到目前为止,全世界仅有两个国家掌握了制造光刻机的主流技术
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投影式光刻机与照相机的对比示意图至于第四代步进式扫描投影光刻机,就实现了在光刻过程当中掩模和硅片同步移动,将芯片的“最小工艺”节点再次拔高
第五代EUV光刻机,就是现在各国追求的尖端光刻机
因为这个光刻机,已经将最小工艺节点推向了一个“极限”
和联想办公电脑完美兼容。刻录光驱所用CD-R(即英文的***pact Disc Recordable)盘的容量一般为700**.它上面所记载资料的方式与一般CD光盘片是一样的,也是利用激光束的反射来读取资料,所以CD-R盘片可以放在CD-ROM上读取,不同的是CD-R盘可以写一次。这次买的先锋老品牌,和Nero10.0软件完美兼容,非常稳定,快。价格也很便宜,性价比非常之好了。
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读盘速度:很快 读盘声音:不大 稳定性能:很稳定 轻薄程度:合适 外形外观:完好 产品包装:结实
由于要实现更精细的工艺节点,光刻机必须要把光刻画成直径极其微小的线条,而这个初始光源就显得尤为重要了
EUV光刻机使用的是13.5纳米的极紫外线,这种紫外线是短波紫外线多次反射后得到的
而得到这个光的方法,不亚于用乒乓球打苍蝇,而且是每秒要打五万次,次次都得击中
可能等到光刻机的制造难度再降低一些,未掌握核心技术的国家才会选择继续研究
值得一提的是,由于各国之间存在“政治博弈”,所以我国的芯片制造领域一直面对着很大的难题
正在研发国产光刻机我国光刻机研发面临的挑战首先就是我国目前依旧缺乏高性能光刻机制造技术,从光刻机的发展历程就能看出,它对于工艺节点的要求越来越高
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全世界仅两个国家掌握技术
第一代为接触式光刻机,掩模会和光刻胶直接接触,使掩膜版和基片都易受到损伤
第二代是接近式光刻机,掩膜版与基片之间的间隙虽然使得这一代的寿命变得很长,但是成像质量也受到了影响,分辨率明显下降
到了第三代时,就已经有了明显进步了,属于扫描投影式光刻机,在这种技术下光学曝光分辨率增强得到了突破,将光刻推向了深亚微米和百纳米级别