其中EUV极紫外光源由中科院长春光机所负责技术攻关;光刻机双工件台系统由清华大学/华卓精科负责技术攻关;高NA浸没光学系统由长春国科精密光学负责技术攻关;EUV光刻胶由中国科学院化学研究所/中国科学院理化技术研究所联合攻关研发
很好,轻薄,声音也小,速度不错,还没有拆开用,现在计算机配光驱的不多了,买个外置的特殊场合备用,很是不错
读盘速度:速度快。 读盘声音:声音小。刻录声音也不大。 稳定性能:性能稳定。 产品包装:包装很好。
而ASML作为全球最大的光刻机厂商自然无法坐视这一市场拱手让人,所以选择降价销售光刻机来抢占市场,继续维护自己在光刻机领域的主导地位