用于大批量制造，以创建先进的微芯片（7 nm、5 nm 和 3 nm 节点）高度复杂的基础层，并支持新颖的晶体管设计和芯片架构
日前，在 2022 SPIE 高级光刻会议上，ASML 介绍了 EUV 的最新进展
根据 ASML 最新消息，新款 EUV 光刻机正在研发中，NA 将从 0.33 增加到 0.55（NA 是光学系统的数值孔径，表示光线的入射角度），2nm 工艺的芯片都将依赖其实现
读盘速度：读取速度很快， 外形外观：外观很漂亮。 读盘声音：几乎无声音。 产品包装：包装很完美。 稳定性能：性能很稳定。 轻薄程度：完全正常。
为什么要冲刺高 NA EUV 光刻机？光刻系统所能达到的分辨率是光刻收缩的主要驱动因素之一，它主要由所用光的波长和光学系统的数值孔径决定
更短的波长可以打印出更小的特征；更大的数值孔径可以更紧密地聚焦光线，也能够带来更好的分辨率
三星方面，据韩媒 Business Korea 报道，李在镕 6 月 14 日造访 ASML 荷兰总部时，拜会了 ASML 首席执行官 Peter Wennink 等高管，广泛讨论半导体技术的未来、市场前景及 EUV 设备的供应，并取得“额外”的 EUV 光刻机设备
即便如此，0.55 NA EUV 光刻机还是得到了芯片厂商的火热预购
毕竟，这是研发 2nm 工艺的芯片的必选项
在各大芯片厂商中，英特尔的速度最快
今年 1 月 19 日，英特尔向 ASML 订购了最新款高 NA EXE:5200 光刻机
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华中科技大学光刻机进展
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在发力 0.33 NA EUV 光刻机的同时，ASML 也在冲刺研发 0.55 NA EUV 光刻机
ASML 高 NA 系统路线图ASML 发言人向媒体介绍，更高的光刻分辨率将允许芯片缩小 1.7 倍、同时密度增加 2.9 倍
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京东自营就是快 再说说先锋的光驱 几十年的世界品牌 我个人用了十几年了 无噪音 读盘快 解码各种光驱的格式都是ok的 值得信赖很购买
芯片厂商打响“2nm 工艺战”
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