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光刻机_雕刻机_曝光系统

ASML 下一代 EUV 光刻机启动:单价 26 亿元,徐州光刻机项目

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ASML 下一代 EUV 光刻机启动:单价 26 亿元

ASML 公告还透露,公司的 EUV 高 NA 业务中,已收到了来自供应商第一台高 NA 机械投影光学器件光源以及新的晶圆载物台

这些模块将用于初始测试和集成,这是 EXE:5000 程序的重要一步

此前据 BusinessKorea 报道,三星已就引进今年生产的 EUV 光刻设备计划明年推出的高数值孔径(High-NA)EUV 光刻设备达成了协议

ASML 首席执行官 Peter Wennink 表示:“一些客户在某些消费驱动的细分市场中显示出需求放缓的迹象,但我们仍然看到对我们系统的强劲需求

虽然我们仍计划在今年交付创纪录数量的系统,但供应链限制的增加导致出现了延迟

High-NA EUV 是下一代光刻设备,与现有的 EUV 光刻设备相比,可以雕刻出更精细的电路,其被认为是一个改变游戏规则的设备,将决定 3 纳米以下代工市场技术竞赛的赢家

High-NA EUV 光刻设备的单价估计为 5000 亿韩元(约 25.85 亿元人民币),是现有 EUV 光刻设备的两倍

ASML 下一代 EUV 光刻机启动:单价 26 亿元,徐州光刻机项目

ASML 公告称,截至 6 月 30 日的三个月,公司收入为 54.3 亿欧元(约 374.67 亿元人民币),高于 2021 年同期的 40 亿欧元;净利润为 14.1 亿欧元(约 97.29 亿元人民币),高于去年同期的 10.4 亿欧元

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徐州光刻机项目

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IT之家 7 月 20 日消息,光刻机巨头斯麦 ASML 今日公布了第二季度财务数据

ASML 表示,净利润较高的原因是新订单量创历史新高,因为尽管有迹象表明销售放缓,但该公司仍在尽可能快地向客户运送设备

根据路孚特数据,ASML 第二季度收入超过分析师预期的 52.8 亿欧元,而利润低于预期的 14.4 亿欧元

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