众所周知,目前所有的芯片制造,均要经过光刻这么一个工艺,所以光刻机是必不可少的半导体设备
而光刻机与芯片的工艺是相对应的,比如EUV光刻机用于7nm及以下,DUV光刻机用于7-180nm
还有UV(i-line)光刻机,主要用于0.35um工艺
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当然,目前全球也在研发其它技术的光刻机,比如多电子束直写光刻机(MEB)、定向自组装技术(DSA)、nm压印技术(NIL)等不同新技术也,希望这些技术有所突破,那么我们就不必依赖ASML了,否则真的太难超越它了
以前基本没有认真评价过不知道浪费了多少积 分,这个福利真好真好,妥妥每次都写100多字,这 是第N次在网上买东西,棒棒棒!很厉害,好便 宜,而且质量很不错,物美价廉买得放心,用得开 心,现在购物已经是每天的必做的事了,买买买根 本停不下来,东西品种多,分类清晰,超级划算而 且方便,主要是还实惠,包装设计很好,并且没有 损坏,希望卖家可以一直保持】,这是一个好评模 版,因为如果每次要长篇写好评也是会耽误好多时 间和精力的,希望能帮到要写详细评论的亲们。
ArF占88%
先锋蓝光刻录机己收到,质量很不错。物流送货上门,非常方便,很好,安装到位,正在调试,物流也很快。昨天下午下单,今天上午就到了
数据显示,全球一共售出478台前道光刻机,被ASML、尼康、佳能瓜分了
其中ASML拿下了其中的309台,占比为65%,接近三分之二的市场
而尼康为6%,佳能为29%
但是在高端EUV光刻机领域,ASML占据了100%的市场,而在次高端的在ArFi和ArF光刻机领域,也分别占据96%和88%的市场
国产9纳米光刻机样机
其中ASML是最牛的, 特别是EUV光刻机,仅ASML一家厂商能制,可以说ASML卡住了全球先进晶圆厂的脖子
但事实上,除了EUV光刻外,ASML在DUV领域的光刻机,也是一顶一的,全球没有对手
如上图所示,这是机构统计的2021年全球半导体前道光刻机销售情况表,上面列出了3大巨头,在各种光刻机上面的销售数据
读盘速度:没有具体的数据,反正挺快的。 读盘声音:很安静,试刻录了一个音乐CD盘,写入很快,放到音响上,播放没有问题。 稳定性能:用了很多个先锋了,质量信得过。旧的因为接口不同,所以买了个新的。
至于佳能,尼康,则主要集中在最低端的还有UV(i-line)光刻机领域,在次高端的DUV领域,都表现一般
至于国产光刻机,虽然可以用于90nm,但其实晶圆厂们用得非常少,并且主要不是用于前道,也就是晶圆制造这一块,更多是用于后道,比如封测等领域