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光刻机_雕刻机_曝光系统

中国光刻机出口俄罗斯,ArF占88%

数据显示,全球一共售出478台前光刻机,被ASML、尼康佳能瓜分了

其中ASML拿下了其中的309台,占比为65%,接近三分之二的市场

而尼康为6%,佳能为29%

但是在高端EUV光刻领域,ASML占据了100%的市场,而在次高端的在ArFi和ArF光刻机领域,也分别占据96%和88%的市场

众所周知,目前所有的芯片制造,均要经过光刻这么一个工艺,所以光刻机是必不可少的半导体设备

而光刻机与芯片的工艺是相对应的,比如EUV光刻机用于7nm及以下,DUV光刻机用于7-180nm

还有UV(i-line)光刻机,主要用于0.35um工艺

物流很快,上午下单下午就到了东西很轻,主要用来读DVD和CD,目前没有什么问题,声音不大,刻录没用过。基本满足需求

ArF占88%

而DUV光刻机又分为ArFi光刻机,用于45-7nm;而ArF Dry用于65nm,还有KrF用于180nm等等

目前全球的光刻机厂商,真不多,特别是用于芯片制造的,也就是前道光刻机,全球也就四家,分别是ASML、日本的佳能、尼康、上海微电子

读盘速度:很快 读盘声音:很小,几乎听不到声音 稳定性能:性能稳定 轻薄程度:与台式机配套合适 外形外观:精緻 产品包装:严实无破损。

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至于佳能,尼康,则主要集中在最低端的还有UV(i-line)光刻机领域,在次高端的DUV领域,都表现一般

至于国产光刻机,虽然可以用于90nm,但其实晶圆厂们用得非常少,并且主要不是用于前道,也就是晶圆制造这一块,更多是用于后道,比如封测等领域

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中国光刻机出口俄罗斯,ArF占88%

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当然,目前全球也在研发其它技术的光刻机,比如多电子束直写光刻机(MEB)、定向自组装技术(DSA)、nm压印技术(NIL)等不同新技术也,希望这些技术有所突破,那么我们就不必依赖ASML了,否则真的太难超越它了

中国光刻机出口俄罗斯

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