“02专项”出窍，看国内现状中国目前技术最为先进的光刻机是上海微电子公司生产的90nm光刻机，其实对于光刻机的发展，中国一直在不断尝试，早在06年就成立了02专项，经过十几年的发展，在光刻机各方面已经有了长足的进步
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走出光刻机困境
上海微电子作为02专项的集成设备厂商，目前还没有正式发布28nm的光刻机，由此看来，还需要一段时间，但随着中国铁了心地坚持自主研发，阿斯麦也没闲着，而是提前在中国发布能够生产28nm芯片的光刻机，并在中国大陆大量布局了光刻机相关专利，据说高达3000多项，很明显他要从市场和技术两方面同时限制中国光刻机的发展，始终认为中国才是他的唯一威胁，但俄、日也纷纷入场，阿斯麦将面临更多竞争
美国为了阻碍中国半导体事业进步，将中国半导体生产限制在10nm以上，对中国实施了严格的禁售，而作为光刻机最重要的生产商阿斯麦，长期垄断这一市场，摄取高额的利润，阿斯麦发言人更是讽刺得说：“将全套的技术给中国，他们也生产不了光刻机”，此话一出，让无数国人愤怒又无奈
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ASML将面临更激烈的竞争
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众所周知，光刻机是工业皇冠上的明珠，由十万多个零部件组成，重达近200吨，集合了世界各国最顶尖的技术，每项技术都是独一无二的，可以说是全球工业技术的巅峰，在半导体制造行业具有极其重要的地位
科益虹源负责光源系统，唯一知道的是国内首台高能准分子激光器顺利出货，打破国外垄断，国望光学参与物镜系统的打造，至于控制软件还有待完善产业链，就差这最后一块版图需要拼接了