国产90nm的光刻机
如上图所示,这是4大厂商的光刻机精度
其中用于7nm及以下芯片制造的EUV光刻机,只有ASML能够生产
而尼康能搞定高端的7-28nm的AiF+浸润式光刻机,但佳能、上海微电子却还停留在90nm,只能生产低端的光刻机
刻录机包装完好无损,外观设计漂亮,性能稳定。物流超快。感谢商家和快递小哥!包装很完整,做工也不错,入手很轻,读盘顺畅,还没试着刻盘
不过也有人称,光刻机所指的精度,并不是指能制造芯片的精度,光刻机可以通过多次曝光,提升分辨率的,那么问题就来了,上海微电子的90nm光刻机,最多能生产多少纳米的芯片?据资料显示,目前上海微电子的90nm的光刻机,主要用于电源管理芯片、LCD驱动芯片、WiFI芯片、射频芯片、各类数模混合电路等