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光刻机_雕刻机_曝光系统

造出0.7nm芯片,有望拥有光刻机技术

至于1.8nm以下,用什么光刻机?反正ASML现在还没规划,因为1.8nm后,技术又会怎么样变化,谁也不清楚

但近日,美国一家公司Zyvex,利用一种完全不同于EUV光刻机的技术,制造出了768皮米,也就是0.7nm的芯片

有望拥有光刻机技术

造出0.7nm芯片

读盘速度:很快很强 读盘声音:比较轻 稳定性能:性能稳定可靠,容错能力强 外形外观:很好看 轻薄程度:适中 产品包装:精致

众所周知,目前最顶尖的光刻机是ASML的EUV光刻机,能够制造3nm的芯片

且在ASML的规划中,到2024年或2025年会交付新一代的High-NA极紫外光刻机

这种EUV光刻机,数值孔径变为0.55NA,也就是解析度(精度)为8nm,可以制造2nm,以及1.8nm的芯片

当然,硅基芯片,也不需要这种电子束光刻机,这么高的精度更多还是用于量子计算芯片,制造出一些高精度的量子器件纳米器材等

另外就是,EBL电子束光刻机,产能非常低,至少在目前大规模制造芯片也不现实,只能小规模的制造量子计算的芯片,至于未来能不能技术改进,提高产能,进而取代EUV光刻机,还不清楚

读盘速度:读盘速度非常快,即插即用读盘声音:声音小。临时要用,上午下单京东下午就送到了,非常方便。但凡装机几乎必选先锋光驱,用了很多年了,质量一直都很稳定。话说包装设计得蛮漂亮的

而0.7nm,差不多相当于2个硅原子的宽度,也是理论上硅基芯片的最高精度,所以很多人认为,当芯片精度达到了1.8nm以后,可能EUV光刻机也不行了,要使用Zyvex公司研发出的这种光刻技术了

Zyvex公司的光刻技术,是啥技术?其光刻系统命名为为ZyvexLitho1,是基于STM扫描隧道显微镜,使用的是EBL电子束光刻方式,与极紫外线没有任何关系,称之为电子束光刻机,可能更合适一点

读盘速度:读盘很快,速度很美,相当不错 读盘声音:很安静,振动也很小,不错! 稳定性能:长时间使用,经常用,能稳定运行两年多,前一个也是这一款! 轻薄程度:台式机用,厚度固定了,这个无所谓了! 外形外观:外形就那样,台式机光驱没有啥特别的外形! 产品包装:包装很好,外面是个纸箱,里面是商品的包装,有减震

刻录机一直买先锋,刻盘成功率高,废盘很少,买刻录机就买先锋。这款刻录机外观简洁大气,做工很好,使用也非常好,读取刻录都很棒,还没刻过坏盘!

不愧是老牌子,质量杠杠滴,上一个也是买的先锋,用了快十年,还能继续用,这次再买个新的,速度不稳定,忽快忽慢的,但是快起来的时候真快

造出0.7nm芯片,有望拥有光刻机技术

这种外置光驱非常好用,买来刻录cd用的,用完可以带走。非常好的一款刻录机,大品牌,值得信赖,而且这个也比较专业吧!

按照Zyvex的说法,这台ZyvexLitho1是可以商用的,还可以接受别人的订单,具体多少钱一台,不清楚,但机器对方可以在6个月出货

虽然可以对外出货,但国厂商,想要买到它,可能就千难万难了,基本不太可能,毕竟EUV光刻机都买不到,更不要说精度更高的电子束光刻机了

送货非常快,上次买了刻录光盘,这次配套购买刻录机,先锋经典老品牌,支持DVD/CD读写,是数据备份,影音,学习的好帮手。

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