相比于俄罗斯从受到制裁才开始布局研制光刻机，中国则是未雨绸缪，很早就开始决定自主研制光刻机了，同时中国在这方面起步其实并不晚，在上世纪七十年代还仅仅跟随着国际发展的脚步，拿得出来并不落后的光刻机
之所以会在日后慢慢落伍，中国与俄罗斯都有着相同的一点，那就是在软件上有着制约
一味想将半导体工业扑在军事上的苏联当局，选择的电子管微型化路线，显然是不适用于集成电路发展的，所以在集成电路的竞赛上，美国取得了方向山的胜利，这让美国将优势保持到了今天
7nm光刻机的工艺难度并不低，这让今天很多工业基础深厚的国家都一定能够独立建造出来，俄罗斯的高调宣布在不少西方国家眼里不过是一种吹牛皮罢了
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asml延迟交付7nm光刻机
或将2028年投产
半导体工业的历史准确来说应该出现在冷战时期，正是冷战的背景促使了半导体工业不断向前发展，其中苏联和美国的方向还各自不同，呈现了两种截然不同的半导体工业体系发展过程
今天的半导体工业的基础得益于晶体管的发展，相比之下苏联在晶体管的制造工艺上并不比美国落后多少，可在集成电路出现后，苏联在半导体工业发展选择方向上的错误便显露了出来
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二、前途依旧渺茫因为光刻机是不少高科技体现的一个整体，所以当一方面有所缺失，那么对于光刻机来说都是致命的，这要求不光在光刻机的硬件上要取得成功，在其软件上也不能落后
俄罗斯因为长年电子工业落后，所以在软件发展上也非常缓慢，于是俄罗斯今后即便研制出了成功的光刻机，想要将它用于生产也是一件非常困难的事，所以俄罗斯能否在未来成功研制出7nm光刻机，这还必须打上一个疑问号
因为电子工业发展没有及时发展相关的工业软件，所以即便能够生产出功能一致的光刻机，也会因为没有相配套的软件控制光刻机，导致光刻机成为了一套无用的机器
这一点在被中国相关部门重视后，很快组织了多场研讨会议，准备自主研制相关的工业软件，让中国在工业软件上不再受限于人
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