读盘速度：很快 读盘声音：还好 稳定性能：不错 轻薄程度：够短 外形外观：憨厚 产品包装：很好
这比ASML目前在售的双工件台EUV光刻机大概又贵了一倍
此前就有调侃说，一台EUV光刻系统相当于一架F22/35战机
此前Intel表示自己是全球第一个下单的客户，台积电也跟进了，三星和SK海力士则尚未表态
ASML正在准备向客户交付首台High-NA EUV光刻机，大概会在明年某个时间点完成
据悉，High-NA EUV光刻机会比现有的EUV光刻机更为耗电，从1.5兆瓦增加到2兆瓦
主要原因是因为光源，High-NA使用了相同的光源需要额外0.5兆瓦，ASML还使用水冷铜线为其供电
先锋蓝光刻录机非常好，物美价廉，很实用，物超所值，质量还是不错的，刻录很方便，三步就像U盘一样，直接拖拽就可以刻录了，不需要非常麻烦的操作，也不需要下载刻录软件，而且可试用的光盘范围比较宽广
颜值没得说 白色很显质感 刻录速度体感比联想绿联戴尔华硕都要快点 用过的刻录机比较多 这款质感最高 物有所值 用的也开心
读盘速度：快 读盘声音：不大 稳定性能：稳定 轻薄程度：标准 外形外观：好 产品包装：很好
特别是用于生产制造2nm、1.8nm等制程的High-NA EUV光刻机初期版本将于明年年末引进，预计2025年末将正式商用
ASML明年交付首台High-NA EUV光刻机ASML首席技术官Martin van den Brink日前受访时表示，目前公司正有序推行其路线图，在EUV之后是High-NA EUV技术
一直用先锋刻录机，非常满意的一次网购 读盘速度：快 外形外观：好 稳定性能：好 轻薄程度：-好 产品包装：好 读盘声音：非常小
如今的深度学习在大规模模型的爆发下，所需算力每几个月就会翻一番，但现在能效比已经成了优先级更高的指标，要想同时满足性能和算力的话，主要方法有四种：一是换一种系统级计算架构，比如DSA架构；二是充分利用3D设计，也就是我们常说的3D封装和堆叠技术；三是从晶体管架构上创新，譬如纳米管、纳米片、CFET和原子沟道等；第四个则是目前看来最快捷的一条路线，通过光刻技术的发展直接提升密度
物流快得惊人，头一天下午下单第二天早上就到了，神速啊，送家里了，下班后试试产品会追评。
读盘速度：十分快 读盘声音：小 稳定性能：十分不错 轻薄程度：刚刚好 外形外观：美观 产品包装：很好
2nm、1nm全靠它!High-NA EUV光刻机2025年末将正式商用
京东效率很高，凌晨拍的，当天就到，刻录效果很好，刻了几张，都没问题，超薄设计，外形炫酷，刻录速度快。
国内有能力生产光刻机的企业
这种方式虽然增加了功耗，但对于那些对功耗并不敏感的产品来说，似乎也是可行的一种思路，那么我们真的有必要用到更贵的高NA EUV光刻机进一步提升密度吗？这个问题的答案其实不言而喻了，英特尔、台积电等晶圆厂提前预订的高NA EUV光刻机订单已经证明了它的重要性
挺好用的，多了一根电源线，对功率小的笔记本很有好处，刻录速度不错，不易刻录失败。好用。白色颜值很高