《光刻技术》刊登的极紫外光源综述论文这篇论文也介绍了长春光机所的最新EUV反射镜及镀膜相关工作，最新的工作包括2020年的两篇论文
我此前介绍过长春光机所进口的德国EUV反射镜镀膜机，也是来自这一系列工作
《极紫外光刻光源的研究进展及发展趋势》论文中引用的长春光机所极紫外多层膜研究工作极紫外光刻胶研究进展极紫外光刻胶《极紫外（EUV）光刻胶的研发》一文的作者杨国强教授和李嫕教授，分别在中国科学院光化学重点实验室和中国科学院理化技术研究所带领团队开展极紫外光刻胶开发
因此，关于极紫外光刻机光源部分的国内研究，基本上已经覆盖在我去年撰写的《中国光刻机困局》系列之中
而我近期的撰文又补充了近一年的新的进展
因此这篇论文不仅涵盖了光刻胶开发历史，而且介绍了两位教授团队的最新成果和专利
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上海光机所主办一个国内核心期刊《激光与光电子学进展》，其中基本涵盖我国激光、光学的主要进展和成果介绍
《激光与光电子学进展》在2022年5月10日出版了专题《光刻技术》，几乎涵盖了我国光刻研究的全面资料
这期的封面便是DUV光学曝光系统的示意图
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解读光刻机困局之2022(三):目前国内光刻研究的整体进度评估
当然，我们在中国的光刻机困局的讨论仅限于核心部件
在这个环节，我将尝试在EUV镜头制造、光学系统制造、光源制造等环节挖掘其瓶颈部分
只有涉及到根本层面时，我们才了解真正打破垄断所需要的软硬件条件，以及限制我国开发光刻机的关键环节