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恰巧2000年的中国,正是大量爱国人士回国创业的时代,他们带着外国的先进知识和经验,进一步促使中国半导体的产业得到光速发展
2007年,上海微电子宣布研制出90nm的分布式投影光刻机,但由于大多数元器件来自国外,西方国家再次禁运,导致无法量产
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1961年,美国GCA公司成功制造出第一台接触式光刻机,再加上新中国建立初期,美国、英国等17个国家就成立了国际巴黎统筹委员会,主要是为了限制成员国向发展中国家出口物资和高新技术,中国也在封禁的行列之中
读盘速度:很快 读盘声音:很轻 稳定性能:很好 轻薄程度:超薄的 外形外观:大气 产品包装:严谨
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光刻机不卖给中国的原因是什么
文 | 华商韬略 付磊 时代在发展,科技在进步,如果说科技是一个国家强盛的根基,那么半导体芯片的制造则代表着人类科技的发展水平,而光刻机则是芯片制造中必不可少的一部分
如今,我国能够生产的光刻机是第四代的ArFDE 90nm制程,然而世界上最先进的光刻机生产企业ASML已经可以做到生产EVU的7nm制程量产
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后来国家为了解决这一难题,除了抓紧整机制造,还开始扶持一系列配套产业链的发展,在不懈努力下,光刻机产业也成功在2016年实现90nm的光刻机量产
同年,中国的清华大学团队和华卓精科成功研发了光刻机双工作台系统样机,至此中国光刻机技术水平达到除ASML外的“外国”同步水平
中国离7nm光刻机还有多远?
基础实力差,加上外国这样的“绊脚石”,让中国不得不主张自行研发
1977年,历经10年之久的中国经过自己的不懈努力,上海光学机械厂成功制造出JKG-3型接触式半自动光刻机
这也代表着此时的中国半导体产业正在紧跟外国的科技发展步伐,然而真正距离美国制造出的光刻机已经相差近二十年,并且就在同年,美国再次推出了真正的自动化光刻机
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