曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域,光源有泵灯,准分子激光器等
近日有国内企业公布了一项关于光线折射等的EUV光刻机专利,这对于国内光刻机产业一直努力的EUV光刻机技术无疑是重大的突破
目前EUV光刻机仅有ASML一家企业可以生产,而ASML深受美国的影响,在美国的影响下导致ASML无法自由出货EUV光刻机,这也成为中国芯片制造的最大障碍
光刻机是芯片生产中最昂贵也是技术难度最大的设备,因为其决定了一块芯片的整体框架与功能
其实生产高精度芯片并不难,只是生产速度太慢,而光刻机能快速生产高精度的芯片,所以很重要