滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

非常好用的一个东西。用来看DVD碟片。小孩六一儿童节的表演节目。马上拍马上到。100块钱就到手，读碟速度超快。超值的呢。

安装使用、领导很喜欢、手感、拿着也不错。外置光驱还不错，包装完好，外观漂亮，使用很方便，读碟效果还不错。

先锋光驱，很多年的老品牌，用过一个先锋外置光驱，这次装机还是在京东选购一台内置先锋DVD刻录机，已装上，读盘很好，刻录功能还末试。

不过资本追逐的永远都是利益，曾经无情吐槽中企“给你们全套图纸都造不出光刻机”的ASML，这两年对我国半导体市场频献殷勤，不仅在国内设立了3个开发中心、15个办事处、11个仓储物流中心等，同时还为中国员工设立了“ASML中国日”，还决定继续扩大中国团队

点单位光盘。以前就用的先锋的。品质非常好，用了好多年了，所以这厮继续购买。商品应该不错。待会儿去试用，用好了再来评价。希望这个产品也好，哪，有一些优惠活动。这样。可以在购买很多。另外价格教师再降点就好。

专门买的工作用，日常家用主机很少会选装了。首先国庆假期物流同样很快，然后商品包装完好，货是全新的，这次购物很满意

不过据称，NXE:3600D型号的EUV光刻机，支持的工艺可能仅到3nm，如果要制造2nm的芯片，光刻精度还要提升，需要新一代的High-NA极紫外光刻机才行

而光刻精度怎么提升，就是数值孔径的提升了， 前几代光刻机，比如3400B/C、3600D的数值孔径都是0.33NA的，解析度（精度）为13nm，单次构图间距为32nm到30nm

而要生产2nm的芯片，数值孔径要变为0.55NA，也就是解析度（精度）为8nm，这样可以更更快更好地曝光更复杂的集成电路图案，同时单次构图间距低于30nm

给单位同事购买的商品，没有反馈说不好用，肯定是很好用了！非常好，正品，刻录机只用先锋，完美的使用感受

荷兰为何不出口中国光刻机

非常满意，性价比高，品质很好，赞赞赞！！！俊秀的外表，优雅的气质，卓越的性能，完美。

EUV 光刻机耗能巨大

IT之家 8 月 26 日消息，据彭博社报道，ASML 新一代 EUV 光刻机每台耗电约 1 百万瓦，约为前几代设备的 10 倍，依赖该设备生产芯片的三星、台积电等芯片制造大厂能源消耗巨大，芯片行业可能成为减少全球碳排放的重要绊脚石

光刻机的难度相当大，在于它自身就是一个庞大的产业链，DUV光刻机的重量达到500公斤，由1万多个元件组成；EUV光刻机更是重达180吨，由10万多个元件组成，正是因为它的复杂性，所以ASML自身无法生产所有元件，需要由德国、美国、日本等全球诸多产业链企业配合才能生产出光刻机

荷兰向中国出售的光刻机

读盘速度：读盘速度非常快，即插即用读盘声音：声音小。临时要用，上午下单京东下午就送到了，非常方便。但凡装机几乎必选先锋光驱，用了很多年了，质量一直都很稳定。话说包装设计得蛮漂亮的

很显然，这两次迭代，将使得摩尔定律被延长至2032年

在中文舆论里，前者便是铺天盖地的所谓“28nm”光刻机；后者便是所谓“7nm”光刻机

半导体产业40年的发展路径经严格考证的国产光刻机光源进度而在我2021年10月份的考证里，国产DUV光源的测试计划是248nm的KrF DUV激光器，因此实际上这一款激光器并没有进入批量生产的阶段

同样，根据2021年3月的公开记录而言，可以很容易判断目前可能还不具备规模量产的能力

因此需要重新调整重大专项的目标和组织模式，以产业发展的基础技术储备作为重点攻关，而不是致力于我前文所述的“复制型制造开发”模式

质量非常好！做工精良！很有分量！比笔记本光驱强很多！第一次买光驱就买了先锋的！刚攒好的台式机配的，组装台式机，没有光驱总感觉缺少点什么。虽然现在光盘不流行了，还有好多说明书是光盘形式的，另外还有cd音乐盘也需要光驱来读，小孩子的教科书配的cd也需要，所以不能缺少光驱，感觉能用好久！

刻录速度不错！不挑盘！很好！京东物流也超快！质量好，很好用，价廉物美，物流半天就送到家了。

读盘速度：非常快 读盘声音：有些大 稳定性能：不确定 轻薄程度：非常轻 外形外观：完美 产品包装：正品包装

高精度光刻机股票

很好，正常使用中，这个品牌的技术过硬，用着放心，推荐大家购买。一直信赖先锋这个牌子，但现在的刻录机比以前的噪音要大，而且数据线也没有...

ASML开始硬气了!中企首台光刻机正式搬入

读盘速度：快 读盘声音：小 稳定性能：相当好 轻薄程度：都是这个尺寸 外形外观：工艺精湛 产品包装：很好

读盘速度：读盘速度很快，加持USB3.0。 读盘声音：运行比较安静，比其他声音小点。光盘质量也有影响。 稳定性能：稳定性强，底部防滑。 轻薄程度：轻薄小巧。能放电脑包。 强制开机按钮很惊艳，强制开盖也不用到处找针了。手轻轻一拨就开了，方便极了。

不再向美限令妥协!首台ASML光刻机已搬入中企光刻机技术落后

据悉，建设包括FAB生产厂房（含洁净室）、OS生产调度及研发大楼、CB综合楼、WH仓库、CUB动力站等大型群体工程

其中，FAB生产厂房作为本工程最大规模单体，建筑面积达104085.98平方米

待该项目全面达到预期产能后，可实现年产能约36万片12英寸功率器件（POWER MOS）晶圆片，主要生产MOSFET、GaN FET、SiC FET等功率器件产品

近期光刻机巨头ASML频频向中国芯片释放善意，与此前的态度截然不同，让人摸不着头脑，直到近期它的高管发言或许能解释这一原因，中国市场已成为它最后的蛋糕了，能卖一台赚一台

一方面是光刻机的技术逐渐达到极限，继续升级已不太可能；另一方面是设备自身成本以及生产成本的激增，这就导致ASML自己都担忧这些先进光刻机未来还有多大需求，而快速发展的中国市场则可望成为台积电最后的希望

随着光刻机变得更加负责，光刻机的耗电量也在激增，业界人士指出High-NA EUV光刻机的总功耗将达到200万瓦的水平，每天耗电量将达到4.8万度电；如今台积电仅是推进至5nm工艺，它消耗的电力已占中国台湾省的8%，业界预期推进至3nm之后它消耗的电力将占中国台湾的12%