滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

这些消息都无不让ASML如鲠在喉，所以美国方面一再施加压力，但是ASML却一直都认为限制DUV光刻机没有多大意义，DUV光刻机已是多年前就已成熟的技术，中国在DUV光刻机方面的进展将会更快，如今中国在EUV光刻机技术上的进展如此迅速，显示出中国不仅在DUV光刻机技术方面进展迅速，在更先进的EUV光刻机技术方面同样很快

近日国内光刻机产业链的企业之一，传芯半导体公开宣布已经20余项EUV光刻机技术专利，加上此前在激光光源、工作台、镜头等方面所取得的成果，国产EUV光刻机已取得了重大进展，或许数年后国产EUV光刻机就将量产，这正让ASML后悔莫及

DUV光刻机出货新规或将迎来变数

光刻机哪里有

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光刻机是芯片制造环节的一种关键设备，在芯片的工艺制程上，也主要是由光刻机来决定的

根据芯片制造环节的不同，可以分为前道光刻机和后道光刻机，ASML的优势在于前道光刻机，而我国上海微电子的优势，则是后道光刻机

其中决定芯片制程的就是前道光刻机，所以由于ASML使用了部分老美的技术，因此EUV光刻机就受到修改芯片规则的制约，无法出货大陆中企

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湖南生产光刻机

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之后理论上数值孔径还能够再提升，比如达到0.7等，但已经没太多必要了，非常不值得，因为成本太高了，难度太大，估计0.55NA就是顶点了

而0.55NA数值孔径的EUV光刻机，其处理极限可能也就是2nm、1.8nm左右，而INTEL也计划用它在2025年左右，量产2nm、1.8nm的芯片

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台积电、Intel和三星是ASML的EUV光刻机的三大客户，而台积电更是最大客户，台积电的先进工艺过剩并且关闭部分EUV光刻机就意味着它不会再采购EUV光刻机了，三星和Intel其实也是差不多的，如此情况下ASML的EUV光刻机还能卖给谁？在光刻机需求下降的时候，近日传出消息指ASML计划大幅增加DUV光刻机和EUV光刻机的产能，如此就颇为耐人寻味了，它逆势扩张光刻机产能当然是要卖给客户，剩下的唯一还需要大量采购光刻机的客户自然就是中国了

非常完美的刻录机。现在公司买的小型主机几乎都没有像以前那这样自带光驱啦。所以必须买一个外带光驱用来读取和刻录光盘。机器黑色耐脏而且包装也很好。使用过了，没有任何问题。

众所周知，中国大陆的芯片产业要发展，与台湾省、与韩国、与日本、欧洲、美国等国家和地区的情况都不一样，复杂很多

像台湾省、韩国、日本等地，要发展芯片产业，是整合全球的供应链，买最先进的产品，再整合起来就行，真正的全球一体化

俄罗斯建议荷兰用光刻机换口罩

可见，光刻机已经成为了当前我们制造芯片的最大短板了，所以国产光刻机真的要努力才行，不说实现5nm，先实现28nm，再搞定14nm，先实现与其它国产半导体设备一个节点才行，你觉得呢？而只要国产半导体设备有了突破，达到先进水平，禁运也就没有了任何意义，也就会全面放开了，刻蚀机就是最好的例子

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如今佳能也开工建设新的光刻机工厂，无疑显示出日本的光刻机企业认识到了中国这个庞大的市场带来的巨大机会，事实上这两年中国就大举从日本采购二手光刻机，推动日本的二手光刻机价格暴涨两倍多，让日本企业赚取了丰厚的利润

由于众所周知的原因，ASML无法对中国出手最先进的EUV光刻机，而在当前用于成熟工艺的DUV光刻机市场，佳能和尼康都有一战之力，早前美国又要求ASML不得对中国出手14nm以下的DUV光刻机，ASML照单全收，中国方面没有说话但是却通过招标表达了意见，中国芯片行业并非只能采用ASML的光刻机

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其中，有 9 台 EUV 光刻机在今年一季度售出，与去年四季度售出 12 台 EUV 光刻机相比，环比减少 25%

数据显示，ASML 去年共售出 42 台 EUV 光刻机

根据 ASML 今年稍早前发布的 2021 年第四季度和全年财报，ASML 去年的 EUV 光刻机销售额为 63 亿欧元（约合 447 亿元人民币）

用于生产 2nm 芯片的 ASML 新款光刻机预计在 2025 年首次投入使用，对芯片厂商而言，“2nm 工艺战”已经打响

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