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断供DUV光刻机:ASML的苦日子在后头

数据显示2021年第一季度，中国大陆从ASML采购的设备销售额占比从22%大幅上涨至34%，成为ASML最大市场

此消彼长之下，未来ASML的增长预期其实依然需要越来越多的依赖中国市场

根据彭博社早前报到，受美国对华出口禁令影响，ASML今年第三季度订单减少，在阿姆斯特丹证交所的股价大跌

而且荷兰外交大臣前段时间还放过狠话，不会一比一按照美国的禁令来

但从今天来看，荷兰最终还是服软了，也因此可以说，荷兰ASML的苦日子要来了，其增长扩产预期可能需要下调了

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与此同时，ASML公司高管对外表示，阿斯麦是一家欧洲公司，其生产的光刻机设备中极少含有美国的零部件，因此将不会对交付中国客户的订单造成影响

在世界经济早已深度交融的今天，任何单方面的禁令都将成为全球产业链互联互通的严重阻碍，并最终反噬自身

俄罗斯用光刻机换口罩

除了亚洲国家和地区之外,美国也将自己的科技霸权触角伸向荷兰，要求荷兰不要向中国出售可用于芯片制造的高端光刻机设备

而是先通过外包采购、委托其他厂商提升技术等方式快速发展壮大，具备了一定的实力后才开始步入研发合作的轨道

当美国等其他其他国家看到荷兰ASML 公司巨大的商业价值和发展潜力后，也纷纷加入到支持ASML公司的行列中来，如生产一台euv光刻机，大概10%的零件来自ASML自己，90%的零件来自其他国家

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和美国远离EUV

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也正因为光刻机技术差距大，所以目前光刻机是禁运的，比如EUV光刻机美国就不准ASML卖到中国大陆来，为的就是阻止我们进入到7nm

前段时间还传出美国要对14nm及以下的设备下手，实行禁运，原因就是国内的设备，能够实现14nm以下节点不多，更多的还处于14nm、28nm阶段

那么问题来了，当前国产半导体设备中，技术最先进的是哪一种，技术相对最落后的又是哪一种呢？上图这张图，其实说得非常明白了

刻蚀机应该是当前国产半导体设备中，唯一达到国际先进水平的，已经达到了5nm

在上个月，美国政府颁布了一项新的法案，该法案将对中国的芯片进口，进行更严格的限制

而且，美国不仅仅是自己限制中国，他们还要求荷兰，日本以及韩国一道遵守他们的新法案，继续对中国的半导体行业实施管制

作为全球光刻机龙头企业的阿斯麦，当然难逃美国人的视线，这些天来，美国政府不止一次要求他们在这一问题上，亮明自身的态度

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不过也有人称，光刻机所指的精度，并不是指能制造芯片的精度，光刻机可以通过多次曝光，提升分辨率的，那么问题就来了，上海微电子的90nm光刻机，最多能生产多少纳米的芯片？据资料显示，目前上海微电子的90nm的光刻机，主要用于电源管理芯片、LCD驱动芯片、WiFI芯片、射频芯片、各类数模混合电路等

如上图所示，这是4大厂商的光刻机精度

其中用于7nm及以下芯片制造的EUV光刻机，只有ASML能够生产

而尼康能搞定高端的7-28nm的AiF+浸润式光刻机，但佳能、上海微电子却还停留在90nm，只能生产低端的光刻机

与此同时，三星、SK海力士、英特尔、台积电以及联电等半导体巨头均在中国大陆布局有产能

根据中国海关总署公布的数据，2021年中国（大陆）集成电路出口3107亿块，同比增长19.6%，出口金额1537.9亿美元，同比增长32%

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这一数字超过了韩国的249.8亿美元和中国台湾的249.4亿美元

实际上，在美国前几年施压荷兰禁止对华出口EUV后，DUV会不会也跟着被限制，一直被当做话题讨论

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IT之家 8 月 26 日消息，据彭博社报道，ASML 新一代 EUV 光刻机每台耗电约 1 百万瓦，约为前几代设备的 10 倍，依赖该设备生产芯片的三星、台积电等芯片制造大厂能源消耗巨大，芯片行业可能成为减少全球碳排放的重要绊脚石

据报道，中国台湾 2016 年制定一个目标，到了 2025 年，其中 20% 电力来自可再生能源