先锋刻录机中的战斗机,老品牌值得信赖,刻录很稳定,静音,读取数据很快。读盘速度快,声音轻,很稳定。不愧是光驱界的老大。
编者按:公众比较熟悉的光刻机代差是基于193纳米光刻光源的干式DUV和浸液式DUV
而浸液式DUV光刻,可以通过多次曝光获得7纳米节点的能力
明确这些技术代差,有助于讨论和思考我国的光刻机发展方式和组织模式
先锋的刻录机非常好,老品牌了,以前就经常使用,质量好,价格实惠,非常满意,快递非常快!
2022-2032年的极紫外EUV光刻机代差在2022年6月底披露的资料中,IMEC公布了更新的未来十年的半导体工艺节点的规划,其中明确了两代EUV光刻技术代差:1,2023-2026年,将以NA0.33 EUV光刻机的多重曝光方式量产2纳米和A14(14Å)节点;2,2026-2032年,将以高NA0.55的EUV光刻机量产A10、A7、A5节点