其中EUV极紫外光源由中科院长春光机所负责技术攻关;光刻机双工件台系统由清华大学/华卓精科负责技术攻关;高NA浸没光学系统由长春国科精密光学负责技术攻关;EUV光刻胶由中国科学院化学研究所/中国科学院理化技术研究所联合攻关研发
要知道此前ASML多年以来一共才向国内出售了50台光刻机,而如今仅仅4个月就销售了23台光刻机,为何ASML会做出如此大的转变?芯片制造一方面是近期随着包括新能源汽车、元宇宙在内的技术快速扩张,因此对于芯片的需求也显著增长
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