滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

面对美国公布的一系列针对中国半导体产业的最新出口管制措施，ASML首席财务官达森称，美国新法规对公司光刻机的出口影响是有限的，因为ASML是一家欧洲公司，其机器中使用的美国零件很少

更加需要中国长时间与美国的“拉扯”以及对外的公开表态显示，和全球其他半导体行业企业一样，ASML不想因为政治原因放弃在中国的巨大利益

向中国出口光刻机

顾文军对《环球时报》记者表示，美国对中国半导体产业的限制，已经从制裁中国半导体企业，到限制国外半导体企业在华发展

随着全球芯片市场出现短缺以后，国产芯片产业链就迎来了大爆发，而我国作为全球第一大的芯片消费市场，每年都要从国外进口超万亿规模的芯片，只要有国内市场加快发展，并努力实现自给自足，那么有这万亿级大市场的支持，我们何愁中国半导体发展不起来呢？不知道对此你是怎么看的呢？

外媒：中国半导体“大势已定”作为我国半导体芯片发展的最前沿阵地，上海“东方芯港”也投入了众多的人力物力资源，在经过众多企业的不断努力以后，我们也终于在光刻机、刻蚀机、光刻胶材料等等领域实现了突破；虽然说我们现在还无法与台积电和三星的5nm工艺制程技术相提并论，对此外媒也纷纷表示：中国半导体的发展也早已经“大势已定”！突破90nm光刻机，可量产14nm芯片如今，上海公布了在集成电路领域取得的一些成果，在90nm光刻机领域已经进行了突破，并能生产14nm芯片；而且在5nm先进的蚀刻机领域也已经有所突破，从目前的发展情况来看，不得不说上海“东方芯港”的发展速度还是比较快的；其中上海微电子已经成功的实现了90nm光刻机的突破，而5nm刻蚀机则由中微公司领头破冰，其生产的5nm蚀刻机甚至已经被台积电所采用；而中芯国际经过这么年时间的发展，其N+1和N+2工艺技术应该也早已经能实现14nm芯片的量产！目前来看，现在中国半导体已经“大势已定”，在这些头部芯片企业的不断努力下，在芯片设计、制造、封装三个环节中，我们已经进行了技术突破，除了光刻机和蚀刻机以外，在芯片设计的EDA软件领域，国内的华大九天也已经宣布可以在28nm提供模拟全流程EDA工具；这也让我们不用担心再被EDA工业软件给卡脖子；而在芯片架构领域，国内的阿里、华为海思都已经成功的打造了开源的开源架构RISC-V，另外，国产龙芯中科也自研了LoongArch指令集架构

如今上海微电子已经成功研发出第一台国产28纳米DUV光刻机，首台交付时间就在明年

一旦我国光刻机被研制出来，那么ASML的市场就会被严重挤压

第三就是DUV光刻机对美国技术依赖较低

因为技术依赖程度比较低，所以ASML想卖DUV光刻机给中国，美方根本阻止不了

ASML为何坚持向中国出售光刻机？主要还是有以下几点原因

首先是为了自己的销售额，据相关数据统计，全球100多家芯片企业中，我国的芯片厂商就有42家，如今高端芯片被台积电和三星这些龙头企业所垄断，而我国中低端芯片产能还非常高

光刻机预定参数

物流很快，东西也不错。。。目前读盘很好，刻录还没有用呢，手头没有空白盘。。还是内置的刻录机稳定速度快。。。非常好用 看了说明书就知道了 操作简便易学 非常好用 看了说明书就知道了 操作简便易学

第三次购买先锋刻录机了，质量很好，价廉物美，值得大家购买，5星好评！超值、超值、超值……质量保障，大品牌值得信赖

帮同事买的，品质一流，狠满意的一次购物。读盘能力强，噪音小，读取速度快，刻录时间和刻录质量稳定，同事都说好。包装完整，物流非常快，超级赞！！

由于要实现更精细的工艺节点，光刻机必须要把光刻画成直径极其微小的线条，而这个初始光源就显得尤为重要了

EUV光刻机使用的是13.5纳米的极紫外线，这种紫外线是短波紫外线多次反射后得到的

而得到这个光的方法，不亚于用乒乓球打苍蝇，而且是每秒要打五万次，次次都得击中

那么，到底什么是光刻机？掌握这项技术的国家又是哪两个？为什么光刻机的制造会这么困难？接下来，就让我们一起来看看被誉为新时代“神器”的光刻机究竟有什么特殊之处

人类高科技的产物——芯片在这项技术当中，最为重要的就是“光刻技术”，因为它的进步可以使摩尔定律不断延伸，让更多的“高端芯片”得以出现

光刻机三大性能

全世界仅两个国家掌握技术

资料显示，EUV光刻机采用波长为13.5nm的激光等离子体光源作为光刻曝光光源

使其波长达到193nm的1/14，几乎逼近物理学、材料学以及精密制造的极限，将最小工艺节点推进至7nm

因为发现别的品牌读盘能力都有不足，选了很多款，最终发现还是先锋的适应性更好！买了，确实不错！之后再买，就这个牌子了，店家发货很快，收藏店家，以后常来！

流畅速度快，全新，非常实用，京东物流就是快 先锋刻录光驱多次买了 好用 性价比超高 good

俄罗斯用光刻机换口罩

ASML的高管近日表示2025年推出的High-NA EUV光刻机可能将是光刻机的最后一代产品了，这已经达到了当前光刻机技术所能达到的最高水平，以这种光刻机技术或许能推进至1.8纳米，再先进的工艺就得另寻它法

当台积电在2nm研发上切入GAAFET（环绕栅极晶体管）技术时，其竞争对手三星则早在2年前其揭露3nm技术工艺时，就宣布从FinFET转向GAA，并「大放厥词」：2030年要超过台积电，取得全球芯片代工龙头地位

老牌半导体经销商智融科技的高管Dan Hutcheson称，「High-NA EUV光刻机是芯片制造业的下一个重大创新突破，拥有者将会引领行业

」台积电负责研发的高级副总裁米玉杰称：「2024年的此引进，将会用来开发相关基础设施与类型工艺，以求推动能满足顾客的创新」

此外，再看光刻机的研发技术，可以说，每一个部位都需要做到极致才可以，比方说，如果想要制造出1nm的芯片，那么，就相当于是一根头发丝的五千分之一那么小，而如今，国际上已经开始生产3nm的芯片了，而国产芯片最快有望在2023年的时候，才可以实现14nm的量产，从这里可以看出，我国在技术上是存在多大的差距

外形外观：精美 读盘声音：静音 稳定性能：稳定 轻薄程度：超薄 产品包装：精美 读盘速度：快

读盘速度：很快，关键是稳，8倍速，蓝光的 读盘声音：声音很轻，可以说用细微来形容 稳定性能：8倍速保证光盘刻录一张保一张 轻薄程度：很轻薄，很便携，非常好 外形外观：小巧，低奢而大气 产品包装：产品的包装很好，两侧的泡沫直接让刻录机在包装盒里悬空，极大地避免了震动！

这两种技术没有多少可比性，没有谁更难造这种对比，都是需要很强的技术的

不过，如果要从稀有度来说，那肯定是“光刻机”更加稀有

毕竟原子弹有8个国家持有，但能造光刻机的国家有且仅有两个

光刻机这个听起来并不是那么具有杀伤力的东西，确实比原子弹更加稀有

中微公司光刻机前景

在早些年的时候，人们就已经意识到了光刻机作为未来科技领域发展的重头戏，很多资本家已经把视线放在光刻机上了，他们不惜耗费大量的资金，主要目的也是为了在光刻机领域里面能够分一杯羹