那么，到底什么是光刻机？掌握这项技术的国家又是哪两个？为什么光刻机的制造会这么困难？接下来，就让我们一起来看看被誉为新时代“神器”的光刻机究竟有什么特殊之处
人类高科技的产物——芯片在这项技术当中，最为重要的就是“光刻技术”，因为它的进步可以使摩尔定律不断延伸，让更多的“高端芯片”得以出现
光刻机三大性能
全世界仅两个国家掌握技术
资料显示，EUV光刻机采用波长为13.5nm的激光等离子体光源作为光刻曝光光源
使其波长达到193nm的1/14，几乎逼近物理学、材料学以及精密制造的极限，将最小工艺节点推进至7nm
全球首台EUV光刻机原型说到这，可以看出光刻机一路的发展其实都算是在挑战“极限”，不断靠近最小工艺节点
读盘速度：很快，比以前家里的快多了。 读盘声音：声音小，也很正常。听到一直在读盘的声音感觉心里很踏实。先锋真的好牌子。 稳定性能：稳定好用，没有出现过问题。 轻薄程度：轻薄好拿。快递给我的时候掉到地上了，也没有摔坏。还很正常的用。 外形外观：外观好看。真的不错
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投影式光刻机与照相机的对比示意图至于第四代步进式扫描投影光刻机，就实现了在光刻过程当中掩模和硅片同步移动，将芯片的“最小工艺”节点再次拔高
第五代EUV光刻机，就是现在各国追求的尖端光刻机
因为这个光刻机，已经将最小工艺节点推向了一个“极限”
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ASML的EUV光刻机简单来说，光刻机算得上是凝聚了各国人才心血的产物，其原材料来自五湖四海
而荷兰和日本虽然已经在这个领域独占鳌头，但是也无法实现“整机国产化”生产，依旧需要全球上下游产业链的供给和支持
上世纪我国第一颗原子弹爆炸成功之后，世界为之震惊，国人也为此自豪
如今时过境迁，在岁月洪流的推动之下，出现了一种比原子弹还稀有的东西，它就是光刻机，其制造难度属于“地狱级别”
为什么光刻机如此难造？因此到目前为止，全世界仅有两个国家掌握了制造光刻机的主流技术
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