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中国有进口光刻机吗

而超分辨率光刻机在原理上突破分辨力衍射的极限，与ASML的技术路线完全不同，不依赖光源波长及镜头数值孔径的传统路线格局

当然，研制出这款超分辨率光刻机，并不意味着我们已经实现了弯道超车，否则也不至于出现华为无法获得高端芯片的情况

具体是将入射光照射在透镜表面的小探针上，然后探针表面的电子就会有序的震荡，从而激发产生波长非常短的等离子体，然后在光刻胶上刻出非常小的图形

而ASML的光刻机，是将激光束经过一些列反射整形后，过滤掉衍射，然后投射经过光刻模板，再投射到硅片上

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这对于一般的晶圆企业而言，是不可承受的成本，所以一直以来，业界都探讨EUV光刻机的替代方案

目前已经被确定的替代EUV光刻机的方案已经有三种，分别是1、纳米压印光刻（NIL）；2、直接自组装（DSA）光刻；3、电子束光刻（EBL）

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然后又要按照光刻机的不同系统进行分类组装，比如光学系统、测量系统、传输系统之类的

除了以上两个关键之处，还有配套设施和后市场之类的，它们的存在让光刻机产业链非常的复杂，从而也使人们难以做到，制造出一个所有零件都自己生产的光刻机

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那么，到底什么是光刻机呢？为什么有人说中国想自己造高端光刻机不现实呢？光刻机到底是什么？在“江湖”上，总有光刻机的传说，比如说假如你发明出了光刻机，将会受到怎样优待的“臆想”