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文/王新喜在向中国出口DUV光刻机的问题上，荷兰ASML曾经左右摇摆，但如今风向转的太快，荷兰最终也没有顶住美国的压力，荷兰最终还是选择了断供DUV光刻机

12月8日，凤凰财经就有消息称，受到美国压力，荷兰最大芯片商限制对华出口

台积电当前已经不得不接受美国的任何条件，甚至将核心技术与产能迁往美国本土

从这个意义上说，ASML的苦日子还在后头

这或许也有不得以之处，毕竟，阿斯麦的前三大股东均来自美国

美国Cymer公司是全球唯一一家极紫外光源供应商，只要Cymer公司切断极紫外光源供应，ASML的EUV光刻机就造不出来了

目前最先进的光刻机分为两种:EUV（极紫外光）和DUV光刻机（深紫外光），极紫外光刻机的波长是13.5nm，而合理制程为3-7nm，光刻机最重要的是投影就是通过光将电路图案通过镜片放大投影到硅片上（跟平常上课用的投影仪一样），但是极紫外光很难获取到，要通过特殊的手段，首先是光源，极紫外光在电磁波光谱中属于短波，在光刻机中使用193nm的光源变成13.5nm的光源，一直困扰科学家多年，直到一位科学家提出通过击打锡滴来获取更短的波长，但是由于光刻机的光源通过各种反光镜的传输，实际收到的光源强度只有2％，所以有科学家提出击打两次来提高光强

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也就是说，美国政府不但不想让中国在高端芯片领域取得重大突破，同时还想限制中国中低端芯片的产能

二是防止中国的光刻机技术取得突破，众所周知，一般一项技术的发展，遵循循序渐进的原则，也就是从落后到先进，光刻机的发展也是如此，阿斯麦公司现在最先进的EUV光刻机也是一代一代升级而来的

今年7月，彭博社曾援引知情人士的消息称，美国正在向荷兰政府施压，要求扩大目前的对华出口限制范围，禁止ASML对华出口部分DUV光刻机

知情人士同时表示，荷兰政府至今尚未同意对ASML的对华出口施加任何额外限制，认为如果实施美方要求的措施，可能会损害荷兰与中国的贸易关系

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曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有泵灯，准分子激光器等

近日有国内企业公布了一项关于光线折射等的EUV光刻机专利，这对于国内光刻机产业一直努力的EUV光刻机技术无疑是重大的突破

目前EUV光刻机仅有ASML一家企业可以生产，而ASML深受美国的影响，在美国的影响下导致ASML无法自由出货EUV光刻机，这也成为中国芯片制造的最大障碍

光线折射技术就是光刻机的核心技术之一，从90nm工艺以来，DUV光刻机所采用的光源都是193nm的光源，而EUV光源则是13．5nm，通过在水等介质的多次折射得到相应波长的光线，从而实现了以193nm光源生产65nm至7nm工艺、13．5nm光线实现7nm至2nm的工艺，而这家企业公布的光线折射技术恰恰解决了光刻机的关键技术

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10月上旬老美出新规，禁止将使用美国设备制造的芯片，销售给中国

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而能达到要求的技师少之又少，连拥有175年历史的蔡司，达到光刻机镜头生产标准的技师也仅有20人

目前，由蔡司生产的最新一代EUV光刻机反射镜，能够做到最大直径1.2米，面形精度峰谷值0.12纳米，表面粗糙度20皮米

这是什么概念呢？如果把镜头放大到地球那么大，它上面只允许有一根头发丝那样的凸起，这可能是宇宙中最光滑的人造物体了

据报道，中国台湾 2016 年制定一个目标，到了 2025 年，其中 20% 电力来自可再生能源

然而，从 7 月的最新能源审查显示，截至 2021 年底，只有 6% 电力来自可再生能源，促使其下调 2025 年的目标至 15%

3 年后台积电将吃掉中国台湾 12% 电力

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而作为芯片领域关键一环——EUV和DUV光刻机的生产国，荷兰的态度无疑是相当重要

不过荷兰政府官员近日表示，将捍卫自己的经济利益，拒绝听从美国方面提出的对中国禁售半导体设备请求

荷兰外贸与发展合作大臣Liesje Schreinemacher周二表示，在与美国等其他国家的贸易谈判中，荷兰将就阿斯麦公司（ASML）向中国销售芯片设备的事宜做出自己的决定

硬抗美国施压!荷外贸大臣:对华出售光刻机 荷兰...光刻机央视

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尽管光刻机这种设备非常之重要，可是能够生产光刻机以及配件的国家却是屈指可数的，正因为如此美国在能在今天发挥自己产业链主导的地位，来制裁俄罗斯，防止俄罗斯依靠高端芯片来扩充自己的军备力量，这让俄罗斯不得不选择了自主化生产光刻机的道路，于是俄罗斯宣布将自主研制7nm光刻机，还表示将在2028年投产，这一度令不少西方国家大感惊讶

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