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光刻机为啥这么难造?比原子弹还稀有

首先EUV光刻机的总重量达到了180吨，需要几十个集装箱运输，并且即使运到了地点也要准备一年的时间等待安装调试

可以看出，光刻机绝对不是大家想象中的“小玩意儿”，它是非常庞大和复杂的

每一个零部件的调试都至关重要目前的高端光刻机的制造主要面对几个技术难题，第一就是解决“光源”的问题

买回来当CD机用，非常好用，音质很好，先锋光驱不错哦，高颜值，高品质，非常好，一分钱一分货，材质外观和质量一看就很上档次，非常喜欢

那么为什么芯片的制造这么难呢？其实最主要的一个原因就在于光刻机的制造，光刻机，是在芯片制造当中必须要有的一个步骤，它是利用紫外线去除晶圆表面的保护膜，用于完成这一步骤的机器就必须是光刻机

所以如果在国家的芯片制造上没有光刻机的话，那么想要研制出芯片几乎是没有办法呈现

在长期的发展当中，原子弹可以说是非常进行研制的，但现在还有一些技术比原子弹还要稀有

目前来说，只有两个国家掌握了它的技术，那么，这究竟是什么呢？现在的发展当中，有一个东西不可忽略，那就是芯片的制造

所以到目前为止，全世界也仅仅只有两个国家掌握了技术，制造光刻机的困于多方面，在研制的投入上以及本身技术的要求都非常高，所以它比原子弹还要稀有，也可以理解，但是这两个毕竟是不同领域的东西，将他们相提并论虽然有一定的共通性，但是差别还是比较大

在长期的发展当中，原子弹可以说是非常进行研制的，但现在还有一些技术比原子弹还要稀有

目前来说，只有两个国家掌握了它的技术，那么，这究竟是什么呢？现在的发展当中，有一个东西不可忽略，那就是芯片的制造

而这个比原子弹还要稀有

日本没有光刻机吗

那么，大家认为能够拥有如此高超的研发能力，掌握这样核心技术的国家会是哪两个呢？许多人可能第一时间就想到了美国，毕竟美国一直在不少领域都掌握了核心科技

但实际上，掌握主流光刻技术的两个国家分别是荷兰和日本，就连美国的光刻机也只能依靠进口

大品牌，质量很好，性价比很高，安装使用方便，读写速度很快，光盘质量好的时候声音很好，使用有的光盘时候有较大声音。

当然，技术难题只能算是其中的一个“小巫”，因为各国对于光刻机的制造都很上心，所以随着技术的研发，许多技术上的难题都将被解决

很好用，读碟效果很好，以前的老光驱有的不能读的碟这个基本都能读出来，满意。买了几次，现在的刻录机价格便宜，质量不错，刻盘坏的很少，值得购买。

读盘速度：非常快 读盘声音：有些大 稳定性能：不确定 轻薄程度：非常轻 外形外观：完美 产品包装：正品包装

京东自营一如既往的好，无论是配送的速度还是到上商品的质量，都非常的不错。 读盘速度：速度很快。光盘放进去，不一会儿就读出来了，很好。 读盘声音：非常的安静。 稳定性能：一直用这个品牌的光驱，性能很好很稳定。 轻薄程度：拿在手里很厚实，非常好。 外形外观：外观比较时尚，很好看。 产品包装：产品的包装比较用心，很简洁，非常好。 京东自营继续加油。

   这一现实情况促使我国迟迟落后于不断进步升级的光刻机工业，被荷兰日本超过许多，又始终找不到破解的法门

靠着光刻机技术的垄断，美国及西方世界将中国死死阻挡在先进芯片国家序列以外

   从这一点来说，我国在光刻机研发上面临的内外交困比制造原子弹那时还要严峻，制造光刻机的难度也比原子弹更大

读盘速度：读盘速度挺快的，稳定性很好 读盘声音：目前感觉声音比较正常，算是比较安静的 稳定性能：性能稳定不会飞盘 轻薄程度：普通的标准大小吧 外形外观：整体外观密闭性挺好，材质看着也很不错 产品包装：包装设计觉为艺术规范很结实

然而在EUV光刻机面世之前，一直都是使用的DUV光刻机，使用的是短波紫外线，突破到极紫外线，一共花费了20年的时间才完成，可见对于光源的选择使用，其的难度是非常大的，没有捷径可走

2、反射镜反射镜听起来好像是一个比较常见的工具，然而在EUV光刻机上的反射镜可是一个关键技术

比原子弹稀有

本人电脑配光驱是并口的，现在换了新主板已经没了并口，只得配串口光驱。之前用的是先锋光驱，用了多年性能依旧良好，所以这次还是选先锋。这款光驱质量不错，读盘很快，刻录效果也不错，声音很小，而且价格很实惠。

先锋老牌子，读碟稳定，写碟快，噪音也很低，满意满意。很好用，噪音小，速度快，送货很快，最重要的是便宜。

光刻机为啥这么难造?比原子弹还稀有

投影式光刻机与照相机的对比示意图至于第四代步进式扫描投影光刻机，就实现了在光刻过程当中掩模和硅片同步移动，将芯片的“最小工艺”节点再次拔高

第五代EUV光刻机，就是现在各国追求的尖端光刻机

因为这个光刻机，已经将最小工艺节点推向了一个“极限”

读盘速度：快， 外形外观：漂亮 读盘声音：很轻 稳定性能：目前使用稳定性好 产品包装：包装精致

就说光刻机，在2，30年前技术还处于粗糙的阶段，如今的发展进入了高精端的领域，那么再经过5.60年，再看向光刻机技术，是否又会觉得这是一件普通到常见的技术了呢？不论是从领域还是从难度等问题，都没有可比性，也没有意义，要说难，那都是难造的

为什么这样说呢？在时间的推移下，拥有核武器，能够制造出核武器的国家已经达到9个之多，五常和巴基斯坦、印度、以色列以及朝鲜这9个，而全球的核弹数量相加，更是一个庞大的数字

毕竟光刻机本就不是一个国家能独立建造的东西，是依靠着全球产业链的支持，进行供应而成

光刻机为啥这么难造?比原子弹还稀有

第一代为接触式光刻机，掩模会和光刻胶直接接触，使掩膜版和基片都易受到损伤

第二代是接近式光刻机，掩膜版与基片之间的间隙虽然使得这一代的寿命变得很长，但是成像质量也受到了影响，分辨率明显下降

到了第三代时，就已经有了明显进步了，属于扫描投影式光刻机，在这种技术下光学曝光分辨率增强得到了突破，将光刻推向了深亚微米和百纳米级别

资料显示，从1968年半导体IC由实验室走向工业大生产算起到现在，集成度提高了约百亿倍，最小特征尺寸图形的加工线条宽度缩小到原来的约1/10000