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那么这个光刻机到底为什么这么难造呢？光刻机是用来制造芯片的核心装备，而芯片的重要性那就不言而喻了，而没有光刻机，我们就没有办法制造芯片，所以涉及到芯片，那么光刻机就是无法躲开的存在

目前我国的国产光刻机，只能生产90纳米的芯片，就算我们能设计更为精细的芯片，可是没有光刻机一样造不出，目前我们要做的是突破28纳米的光刻机技术

而ASML采用的则是一种激光干涉仪，精度非常高，有着位移测量的能力，可以实现出纳米级的同步运动，非常精密，这样的技术就是美国也没有办法做到

所以到目前为止，全世界也仅仅只有两个国家掌握了技术，制造光刻机的困于多方面，在研制的投入上以及本身技术的要求都非常高，所以它比原子弹还要稀有，也可以理解，但是这两个毕竟是不同领域的东西，将他们相提并论虽然有一定的共通性，但是差别还是比较大

而光刻机可以直接地理解成一个成像的设备，就是将一些设置好的图案，利用电路图形将它直接到晶园上，这样才能够让制造出来的芯片有价值

而除开这样的雕刻技术之外，还有一个难以超越，就在于芯片制造的主要单位是纳米，所以还需要有纳米级别的精准度，不然也没有办法完成

当初我们原子弹制造是从0到1的跨越，万丈高楼平地起，而光刻机要说，其实是从1到2的进程，只是目前我们没有办法研制高端光刻机，因此我们要做的，就是将高端技术走向高精端，只是这个过程并不容易了

可是目前我们所能够知道的，高端的光刻机，比原子弹要极为稀有，这是不得不面对的事实

就说光刻机，在2，30年前技术还处于粗糙的阶段，如今的发展进入了高精端的领域，那么再经过5.60年，再看向光刻机技术，是否又会觉得这是一件普通到常见的技术了呢？不论是从领域还是从难度等问题，都没有可比性，也没有意义，要说难，那都是难造的

而这恰恰是工业发展历史不长国家的命门，也是目前我国暂时造不出真正先进水平光刻机的真实原因

光刻机与原子弹，谁更难？说到这里，有人不禁要问，中国曾在一穷二白的时期，独立研发过原子弹，为什么就是研制不出好的光刻机？其实，原子弹这样开创新技术的装备，研究的重点在于搞清楚原理

目前荷日的光刻机都采用的固定操作台，对于这样一个精密机器，工作台也需要做到极高的精度，EUV光刻机采用高精度激光干涉仪，以便降低光刻机的位移干扰

光刻机的总体结构示意图光刻机的发展历程随着互联网的普及，人类步入了真正的信息时代，而信息时代的关键产业当然就是IT了，那么IT最核心的东西是什么呢？自然是半导体集成电路（IC）芯片制造技术，也叫做微电子技术

在光存储这个领域中，日本的先锋品牌的确独树一帜，稳定高效，特别是在刻录行业中质量真的是杠杠的，前置面板大黑，尽显优雅高贵，LOGO是白色的，装在机箱中大气豪华，这个品牌的刻录光驱可以放心的使用好多年，值得信赖。读盘速度：速度很快，质量挺好。读盘声音：声音小没噪音稳定性能：很稳定。轻薄程度：适中吧外形外观：外观都一样产品包装：包装结实!

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全球光刻机市场格局示意图在这之中，荷兰的阿斯麦尔公司主导高端市场，日本的尼康和佳能则占据了低端市场的大量份额

那么，这只让“两家独大”的光刻机，到底有多难造？光刻机为何如此难造？其实对于光刻机为什么这么难造的问题，我们可以用第五代EUV光刻机为例子，来找找原因

非常好，但刻录只有18速？，而且噪音很大，不过其他很好。不错的用来刻录CD机用的。很安静。没有噪音。稳定可靠。

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光刻机的难度和**

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正是由于这样的原因，才让中国的芯片制造企业起色一直不太好，而美国方面的打压，也让我们的芯片制造行业进入了一定的低谷期，但即使这样中国也没有放弃在这方面的技术突破，甚至在美国打压的那段时间，我们发动的科研人员，国家企业，以及很多民营企业做共同的努力，所以最后的成效，虽然比较好，但是想要赶上发达国家还是不太可能

中国光刻机出口俄罗斯

正是由于这样的原因，才让中国的芯片制造企业起色一直不太好，而美国方面的打压，也让我们的芯片制造行业进入了一定的低谷期，但即使这样中国也没有放弃在这方面的技术突破，甚至在美国打压的那段时间，我们发动的科研人员，国家企业，以及很多民营企业做共同的努力，所以最后的成效，虽然比较好，但是想要赶上发达国家还是不太可能

而光刻机可以直接地理解成一个成像的设备，就是将一些设置好的图案，利用电路图形将它直接到晶园上，这样才能够让制造出来的芯片有价值

然而在EUV光刻机面世之前，一直都是使用的DUV光刻机，使用的是短波紫外线，突破到极紫外线，一共花费了20年的时间才完成，可见对于光源的选择使用，其的难度是非常大的，没有捷径可走

2、反射镜反射镜听起来好像是一个比较常见的工具，然而在EUV光刻机上的反射镜可是一个关键技术

正合适，价格也不贵，现在用刻录机的少了，市面上的刻录机良莠不齐，水货很多，质量也没有保证，考虑很久，还是不从实体店买了，这款目前使用很好，没出现刻录废碟，点赞