滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

质量非常好！做工精良！很有分量！比笔记本光驱强很多！第一次买光驱就买了先锋的！刚攒好的台式机配的，组装台式机，没有光驱总感觉缺少点什么。虽然现在光盘不流行了，还有好多说明书是光盘形式的，另外还有cd音乐盘也需要光驱来读，小孩子的教科书配的cd也需要，所以不能缺少光驱，感觉能用好久！

一直都蛮喜欢先锋，在华硕和先锋两个品牌面前纠结了好久，最后还是选择了先锋，读书的时候就是只用先锋，现在还是选择先锋，质感非常不错哦，小日本的东西还是不错的！便携式给客户刻录碟片非常方便！给京东一个大大的好评！赞！

而基于0.55NA数值孔径的光刻机，光刻分辨率将允许芯片缩小1.7倍、同时密度增加2.9倍，其处理晶圆的能力是每小时处理220片12寸晶圆左右，真正用于制造3nm以下的芯片

至于买家，当然只有台积电、三星、英特尔三家才有资格购买，其它的晶圆厂，能够买到0.33NA的EUV光刻机，就已经非常不错了，不要想这种0.55NA的

读盘速度：很快 读盘声音：还好 稳定性能：不错 轻薄程度：够短 外形外观：憨厚 产品包装：很好

众所周知，制造7nm及以下工艺的芯片，需要用到EUV光刻机，而全球仅有ASML能够生产

很久没有用过光驱了，现在小孩的学习资料很多是光盘，所以买一个用用，老牌光驱品牌，不错，很好用，如果能配套方便使用的刻录软件就更好了

不过据称，NXE:3600D型号的EUV光刻机，支持的工艺可能仅到3nm，如果要制造2nm的芯片，光刻精度还要提升，需要新一代的High-NA极紫外光刻机才行

而光刻精度怎么提升，就是数值孔径的提升了， 前几代光刻机，比如3400B/C、3600D的数值孔径都是0.33NA的，解析度（精度）为13nm，单次构图间距为32nm到30nm

轻薄程度：比想象中薄，很轻便 外形外观：黑色一体，很漂亮 产品包装：包装很严实 稳定性能：刻录稳定，未失败过 读盘速度：读写速度很快，和介绍一样 发货速度很快，很满意的一次购物。满足预期

而基于0.55NA数值孔径的光刻机，光刻分辨率将允许芯片缩小1.7倍、同时密度增加2.9倍，其处理晶圆的能力是每小时处理220片12寸晶圆左右，真正用于制造3nm以下的芯片

至于买家，当然只有台积电、三星、英特尔三家才有资格购买，其它的晶圆厂，能够买到0.33NA的EUV光刻机，就已经非常不错了，不要想这种0.55NA的

一小时处理220片12寸的晶圆，其产能有多大？如果是苹果A16这样的芯片，一块晶圆可以切割600块左右，理论上一台这样的光刻机，一年可以就光刻10亿颗以上……至于价格方面，ASML表示，其0.55NA的下一代EUV光刻机单价将达到3亿多美元（约合20亿元人民币）

先锋光存储产品一直是全球领先的，其实我更想购买的是DVD-ROM，因为我只用来抓取CD。从EAC抓取数据来看，读取偏移校正为6，这个数值相当低，也就是说抓取的效果是非常好的，有些光驱这个数值能达到50、60或者更高，因此这是评判一只光驱最好的维度之一。每个人用途不一样，我只是从抓取CD的角度来看是非常完美的，而且在抓取的过程中震动和噪音非常低。最后一句：先锋这款光驱是性价比之王！

而ASML作为全球最大的光刻机厂商自然无法坐视这一市场拱手让人，所以选择降价销售光刻机来抢占市场，继续维护自己在光刻机领域的主导地位

ASML光刻机第二个原因自然是在国产光刻机正式下线量产之前抢占身位

为何之前这么多年仅仅出售50多台光刻机，而如今仅仅4个月就出售23台光刻机？最重要的原因就是国产光刻机取得突破并将正式下线成为ASML的直接竞争对手

很好的刻录机，一直用这个牌子，便宜实惠，上一个用了5年，里面的皮带不行了，就又买个一个！

送货非常快，上次买了刻录光盘，这次配套购买刻录机，先锋经典老品牌，支持DVD/CD读写，是数据备份，影音，学习的好帮手。

而基于0.55NA数值孔径的光刻机，光刻分辨率将允许芯片缩小1.7倍、同时密度增加2.9倍，其处理晶圆的能力是每小时处理220片12寸晶圆左右，真正用于制造3nm以下的芯片

至于买家，当然只有台积电、三星、英特尔三家才有资格购买，其它的晶圆厂，能够买到0.33NA的EUV光刻机，就已经非常不错了，不要想这种0.55NA的

而要生产2nm的芯片，数值孔径要变为0.55NA，也就是解析度（精度）为8nm，这样可以更更快更好地曝光更复杂的集成电路图案，同时单次构图间距低于30nm

而要生产2nm的芯片，数值孔径要变为0.55NA，也就是解析度（精度）为8nm，这样可以更更快更好地曝光更复杂的集成电路图案，同时单次构图间距低于30nm

这种新的EUV光刻机叫做型号，就叫做EXE:5200，目前ASML已经有了规划，预计在2024年底，或者2025年交付

众所周知，制造7nm及以下工艺的芯片，需要用到EUV光刻机，而全球仅有ASML能够生产

ASML在2015年，就推出了第一代EUV光刻机WINSCAN NXE:3400B，之后在2019年推出了NXE:3400C，2021年推出了NXE:3600D

为了摆脱困境，1956年国家成立科学规划小组，集中600多位科学家，开始编制《十二年科学技术发展规划》

这是新中国成立以来第一个科技规划，提出了57项重大科学技术任务、616个中心问题，规划初步完成时，资料多达600万字

回顾中国光刻机过去60年间的发展，前20年，在科研人员夜以继日的攻关下，中美光刻机差距被缩短到了7年，中间十几年，因为种种原因，国内外的光刻机差距越拉越大，直到2000年后，面对断供的威胁，以及与国外的恐怖差距，国产光刻机再次开始奋力追赶

不过据称，NXE:3600D型号的EUV光刻机，支持的工艺可能仅到3nm，如果要制造2nm的芯片，光刻精度还要提升，需要新一代的High-NA极紫外光刻机才行

而光刻精度怎么提升，就是数值孔径的提升了， 前几代光刻机，比如3400B/C、3600D的数值孔径都是0.33NA的，解析度（精度）为13nm，单次构图间距为32nm到30nm

而要生产2nm的芯片，数值孔径要变为0.55NA，也就是解析度（精度）为8nm，这样可以更更快更好地曝光更复杂的集成电路图案，同时单次构图间距低于30nm