众所周知,制造7nm及以下工艺的芯片,需要用到EUV光刻机,而全球仅有ASML能够生产
ASML在2015年,就推出了第一代EUV光刻机WINSCAN NXE:3400B,之后在2019年推出了NXE:3400C,2021年推出了NXE:3600D
不过据称,NXE:3600D型号的EUV光刻机,支持的工艺可能仅到3nm,如果要制造2nm的芯片,光刻精度还要提升,需要新一代的High-NA极紫外光刻机才行
而光刻精度怎么提升,就是数值孔径的提升了, 前几代光刻机,比如3400B/C、3600D的数值孔径都是0.33NA的,解析度(精度)为13nm,单次构图间距为32nm到30nm