为了摆脱困境,1956年国家成立科学规划小组,集中600多位科学家,开始编制《十二年科学技术发展规划》
这是新中国成立以来第一个科技规划,提出了57项重大科学技术任务、616个中心问题,规划初步完成时,资料多达600万字
回顾中国光刻机过去60年间的发展,前20年,在科研人员夜以继日的攻关下,中美光刻机差距被缩短到了7年,中间十几年,因为种种原因,国内外的光刻机差距越拉越大,直到2000年后,面对断供的威胁,以及与国外的恐怖差距,国产光刻机再次开始奋力追赶
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一方面是我们本身底子就薄,另一方面是美国主导的“巴统”,对华实行封锁禁运,中国拿不到任何国外的技术资料
外部的封锁,再加上种种波折,中国光刻机研发落后在所难免
收到就试了一下,稳得一批啊,声音也很小。读盘速度:挺快读盘声音:挺小稳定性能:很稳轻薄程度:刚好外形外观:美丽产品包装:简单安全
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国产光刻机的艰难往事
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光刻机不准用于国产芯片
但是这么多重点,主要应该抓哪些呢?最终四个国际上发展很快,而我国还处于空白的领域,成为了最重要、最紧急的“四大紧急措施”,其中之一,便是半导体
关于我国最早的光刻机,有一种说法是1966年,中国科学院微电子研究所的前身——109厂与上海光学仪器厂协作,研制成功我国第一台65型接触式光刻机
1980年,无锡的江南无线电器材厂(724厂)引进日本东芝的电视机集成电路5微米全套产线,这是国内第一次从国外引进集成电路生产线,短短几年,厂里的芯片产量就达到了3000万块,742厂一跃成为我国产能最大的集成电路生产厂