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随着光刻机变得更加负责，光刻机的耗电量也在激增，业界人士指出High-NA EUV光刻机的总功耗将达到200万瓦的水平，每天耗电量将达到4.8万度电；如今台积电仅是推进至5nm工艺，它消耗的电力已占中国台湾省的8%，业界预期推进至3nm之后它消耗的电力将占中国台湾的12%

近期光刻机巨头ASML频频向中国芯片释放善意，与此前的态度截然不同，让人摸不着头脑，直到近期它的高管发言或许能解释这一原因，中国市场已成为它最后的蛋糕了，能卖一台赚一台

一方面是光刻机的技术逐渐达到极限，继续升级已不太可能；另一方面是设备自身成本以及生产成本的激增，这就导致ASML自己都担忧这些先进光刻机未来还有多大需求，而快速发展的中国市场则可望成为台积电最后的希望

挺好的，价格公道，先锋刻录机应该是刻录机里面最好的品牌了，很早之前用过一个115ch，用到老化，也只是刻录速度变慢，从来没刻飞过，后来买了别的品牌的，简直是噩梦。京东不错，不怕买到翻新货，价格还公道，不用去电脑城挨宰和被以次充好了。

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而超分辨率光刻机在原理上突破分辨力衍射的极限，与ASML的技术路线完全不同，不依赖光源波长及镜头数值孔径的传统路线格局

当然，研制出这款超分辨率光刻机，并不意味着我们已经实现了弯道超车，否则也不至于出现华为无法获得高端芯片的情况

EBL电子束光刻机，大家可能熟悉了，前段时间美国公司Zyvex，就搞出了一台电子束光刻机(EBL)，并制造了768皮米（0.768nm），不过这种光刻方式速度慢，不可能用于在规模芯片制造

而纳米压印光刻技术，目前被佳能押注，目前佳能已经能够提供NIL光刻机，比如东芝，就一直想用NIL光刻机来生产NAND闪存，同时在NIL光刻专利中，佳能遥遥领先

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这种方式比传统光刻分辨率更高，加工速度也不受影响，但它对材料控制的要求特别高，目前还没有成熟的解决方案，还处在实验室阶段

而对这一技术研究较深的是比利时微电子中心、麻省理工学院，他们都建立了自组装产线，进行相关研究，三星在DSA上申请的专利最多，也非常重视这一 技术

ASML此前愿意遵从美国的要求，就在于受美国影响的三星、Intel和台积电还能持续为它提供丰厚的收入，然而这些芯片企业如今都在收缩，台积电更计划明年的资本开支减少资本开支80亿美元，这些企业无法为ASML提供更多收入了，ASML为了生存就只能自己找市场，如此它反水也就在情理之中

计划大举向中国出售光刻机以求生存

原来一直用的三星刻录机，用了几年了，不行了，刻不出来了。换了这个，之前发现有不少差评，有些犹豫。换了以后，发现速度快，声音很小，性价比超高。值得购买。