近日国内光刻机产业链的企业之一,传芯半导体公开宣布已经20余项EUV光刻机技术专利,加上此前在激光光源、工作台、镜头等方面所取得的成果,国产EUV光刻机已取得了重大进展,或许数年后国产EUV光刻机就将量产,这正让ASML后悔莫及
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中国除了继续研发光刻机之外,还在研发无需光刻机的芯片制造工艺,这方面已有日本做出示范,日本企业研发的NIL工艺就无需光刻机并已给日本存储芯片企业铠侠采用,证明了无需光刻机也能生产芯片,而日本预计NIL工艺可用于5nm芯片的生产,如果这一工艺得到推广对ASML更是灭顶之灾