无论是28/45/65/90nm和0.18um这些节点均对第四代浸没式光刻机有着应用需求
终端市场推动了成熟制程的产品越来越多,比如汽车、IoT、传感器、功率、MCU等,成熟制程市场空间不断增长
不过有一个坏消息就是, 美国正在向ASML施压,希望他们禁止销售最先进的第四代浸没式光刻机给中国,而这相比于EUV极紫外光刻机,所造成的影响将更为严重
光刻机为什么重要,就是因为只有通过光刻机,把电路图和其他电子元印在硅片上,才有制造出芯片的可能光刻机需要在一块指甲盖大小的硅晶片内,映射出几十亿甚至上百亿个微小的单元,目前最先进的光刻机能够加工的最细线条已经达到13nm