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国产光刻机

可见，光刻机已经成为了当前我们制造芯片的最大短板了，所以国产光刻机真的要努力才行，不说实现5nm，先实现28nm，再搞定14nm，先实现与其它国产半导体设备一个节点才行，你觉得呢？而只要国产半导体设备有了突破，达到先进水平，禁运也就没有了任何意义，也就会全面放开了，刻蚀机就是最好的例子

那么问题来了，当前国产半导体设备中，技术最先进的是哪一种，技术相对最落后的又是哪一种呢？上图这张图，其实说得非常明白了

光刻机是干嘛

这些专利也在我的前文中做过详细介绍，这里就不赘述了

《光刻技术》刊登的极紫外光源综述论文这篇论文也介绍了长春光机所的最新EUV反射镜及镀膜相关工作，最新的工作包括2020年的两篇论文

我此前介绍过长春光机所进口的德国EUV反射镜镀膜机，也是来自这一系列工作

我们注意到几篇光刻胶专利都是2021年刚刚发表的

因此，很显然，这些资料已经充分地披露了最新的光刻机研究项目的进展，以这些资料作为背景做中国的光刻机困局的分析，是充分的、也是有时效性的

收到货好几天了，在用这款writer，感觉还不错，已经刻了一张，性能不错，而且方便携带，包装还好，物美价廉的好商品！

一直用先锋刻录机，非常满意的一次网购 读盘速度：快 外形外观：好 稳定性能：好 轻薄程度：-好 产品包装：好 读盘声音：非常小

这个价格什么概念，资料显示重型航母（排水量60000吨以上）航母造价是35亿美金左右，而上述光刻机成本等同于f35战斗机造价（1.5-2.5亿美元）

尽管如此昂贵，但Intel此前表示自己是全球第一个下单的客户，台积电也跟进了

读盘速度：8倍速，刻录DVD筋速度比较快 读盘声音：静音，不错 稳定性能：用了2个月，没有发现问题，以前给朋友买过，用了5年还在用 轻薄程度：很轻薄，轻巧，很薄 外形外观：黑色，真心不错，好看 产品包装：简单实用 京东商城非常给力，送货上门非常快，快递哥服务态度好，热情周到。

今年7月起，美国已陆续派出官员赴荷兰施压，要求阿斯麦公司扩大对中国的禁售范围

施赖纳马赫尔周五表示：“我们正与美国进行谈判，显然他们已经宣布了单方面措施

”施赖纳马赫尔此前表态称，荷兰不会“完全照搬”美国限制对华芯片出口的措施，会在与美国、日本等国家磋商后做出自己的评估

物有所值，买回来看包装就很喜欢，推荐此产品，欢迎大家来买他家的产品。 读盘速度：很快， 读盘声音：声音不是很大 稳定性能：刻录光盘很舒适 外形外观：很漂亮，用着合适。 轻薄程度：很薄

家里的电脑使用时间有点长了，光驱是易损品，时间长该换了，选了很久，买了这款先锋光驱，毕竟是大品牌，可信赖！总之5星好评！ 读盘速度：因为买的是刻录光驱，肯定主要看刻录速度，感觉还不错，CDRW24倍速，DVDRW是8倍速滴? 稳定性能：毕竟是大品牌，性能肯定比较稳。 轻薄程度：很好，适合台式机。

其次是美国光刻机企业Zyvex公司研发电子束光刻机，绕开了ASML的EUV光刻机，并且将先进工艺提升到0.768纳米，打破了ASML尚未量产的第二代EUV光刻机的极限，为芯片制造开辟了新的道路，如此一来美国芯片企业未来很可能不再采购ASML的EUV光刻机

中国芯片制造企业以现有的DUV光刻机将芯片制造工艺推进至7nm，国内的芯片封装企业通富微电等又研发了5nm芯粒封装技术，如此国产芯片可望提供接近5nm工艺性能的芯片，对ASML的EUV光刻机需求迫切性下降

产品包装：包装妥当，严实 稳定性能：稳定 读盘声音：较小 外形外观：小巧 轻薄程度：轻薄 读盘速度：很快 先锋不愧是光驱第一品牌，以前用过先锋的CD刻录机，从没有废盘，刻录质量杠杠的！

还是媲美EUV的那种

所以其它厂商有一个非常大的机会，那就是搞定EUV光刻机，然后卖给中国，那会是巨大的市场

不过，要掌握EUV光刻机技术，可不容易，因为ASML造EUV光刻机，是整合了全球的技术，美国的光源、德国的镜片、英国的真空腔，可以说是举全球之力完成的

众所周知，目前芯片的制造流程中，光刻机是必不可少的设备，且从成本来看，光刻机占所有半导体设备成本的20-25%

但是大家也清楚，当前在光刻机领域，ASML是一家独大，特别是EUV光刻机，只有ASML能够生产，而在尖端一点的DUV光刻上面，也是ASML占优，佳能、尼康等品牌，主要占的是低档市场

外包装没有温謦提示封条。读盘还快，刻录dvd光盘5分多就刻好了。包装完整，安装方便，装好以后读盘速度很快，很不错的一个光驱，值得购买

光刻机是干嘛

ASML 公告还透露，公司的 EUV 高 NA 业务中，已收到了来自供应商的第一台高 NA 机械投影光学器件、光源以及新的晶圆载物台

这些模块将用于初始测试和集成，这是 EXE:5000 程序的重要一步

此前据 BusinessKorea 报道，三星已就引进今年生产的 EUV 光刻设备和计划于明年推出的高数值孔径（High-NA）EUV 光刻设备达成了协议