光刻机是干嘛
《光刻技术》刊登的极紫外光源综述论文这篇论文也介绍了长春光机所的最新EUV反射镜及镀膜相关工作，最新的工作包括2020年的两篇论文
我此前介绍过长春光机所进口的德国EUV反射镜镀膜机，也是来自这一系列工作
因此，很显然，这些资料已经充分地披露了最新的光刻机研究项目的进展，以这些资料作为背景做中国的光刻机困局的分析，是充分的、也是有时效性的
中国光刻机困局研究三要素中国光刻机困局的分析，基于以下三个要素：1，首先整理技术发展的真实资料，它包括中外论文、会议、报告、专利、新闻资讯等
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以便更多的读者可以从更系统、更全面的角度去了解我在这个系列撰文里所提出的观点及论述
光刻机运动台控制上海光机所的《激光与光电子学进展》众所周知，上海光机所是我国先进激光技术的顶尖研究单位之一，我曾经在前文详细介绍过上海光机所的极紫外光刻光源相关研究工作
很好，轻薄，声音也小，速度不错，还没有拆开用，现在计算机配光驱的不多了，买个外置的特殊场合备用，很是不错
因此，关于极紫外光刻机光源部分的国内研究，基本上已经覆盖在我去年撰写的《中国光刻机困局》系列之中
而我近期的撰文又补充了近一年的新的进展
我认为我的分析基本可以反映了目前国内研究的整体状况
因此这篇论文不仅涵盖了光刻胶开发历史，而且介绍了两位教授团队的最新成果和专利
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当然，我们在中国的光刻机困局的讨论仅限于核心部件
在这个环节，我将尝试在EUV镜头制造、光学系统制造、光源制造等环节挖掘其瓶颈部分
只有涉及到根本层面时，我们才了解真正打破垄断所需要的软硬件条件，以及限制我国开发光刻机的关键环节
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