滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

用了多年先锋刻录机，相信它的质量，到手发现很小巧玲珑，方便携带，试刻了一张，很好，和win7兼容的很好，自动安装了驱动，系统直接就可以刻录，做工也不错！

注定赶不上西方国家?

刻碟速度很快，CD碟5分钟内刻完，大品牌，质量有保障，物美价廉，值得信赖。先锋(Pioneer) 16X内置蓝光刻录机质量非常好 长期使用中 值得信赖 好评五星

原来一直用的三星刻录机，用了几年了，不行了，刻不出来了。换了这个，之前发现有不少差评，有些犹豫。换了以后，发现速度快，声音很小，性价比超高。值得购买。

质量非常好，与描述的完全一致，非常满意,真的很喜欢，完全超出期望值，发货速度非常快，包装非常仔细、严实，服务态度很好，运送速度很快，很满意的N次购物

中国的量子技术专家表示量子计算机将不仅限于超级计算机，还将面对商用市场推出通用计算机，到那时候中国科技行业将彻底终结硅基芯片统治芯片行业的历史，中国的芯片技术也将达到世界领先水平，并形成我们自己的技术体系

做工不错，手感很好，刻录功能还没使用，应该用到的机会不多。平时主要用于读DVD盘，便携性很好。 纸盒包装上还有温馨提示，再次核对型号是否正确，方便退换货，很人性化。

ASML 官宣新一代光刻机研发进展

挺好用的，多了一根电源线，对功率小的笔记本很有好处，刻录速度不错，不易刻录失败。好用。白色颜值很高

在第一季度，我们收到了多份 EXE:5200 系统的订单

我们这个月还收到额外的 EXE:5200 订单

我们目前已有来自三个逻辑芯片和两个存储芯片客户的高 NA 订单

EXE:5200 是 ASML 的下一代高 NA 系统，将为光刻技术的性能和生产力提供下一步的发展

在今年 6 月 17 日举行的技术研讨会上，台积电研发高级副总裁米玉杰表示：“展望未来，台积电将在 2024 年引入高数值孔径的极紫外（高 NA EUV）光刻机，为的是开发客户所需相关基础设施和模式解决方案，进一步推动创新

光驱很漂亮，启动的声音很小，弹出非常平稳。希望能够用的时间久一些。读盘速度：很快读盘声音：声音小，几乎听不到产品包装：精美

读盘速度：读盘速度非常快，即插即用读盘声音：声音小。临时要用，上午下单京东下午就送到了，非常方便。但凡装机几乎必选先锋光驱，用了很多年了，质量一直都很稳定。话说包装设计得蛮漂亮的

第三次购买先锋刻录机了，质量很好，价廉物美，值得大家购买，5星好评！超值、超值、超值……质量保障，大品牌值得信赖

ASML 共售出 136 台 EUV 光刻机在 2022 SPIE 高级光刻会议上，ASML 也披露了 EUV 光刻机的出售数据

数据显示，截至 2022 年第一季度，ASML 已出货 136 台 EUV 光刻机，约 7000 万个晶圆已曝光

京东购物真方便，一直购买中 读盘速度：超快，识别光盘也不错，兼容性能超好。 外形外观：黑色，自用真好，看着舒服。。 轻薄程度：小巧轻便，放在笔记本包里也正好，方便我带出去 产品包装：京东物流快，包装也好，没有损坏，给快递师傅点赞。 读盘声音：读盘声音轻，能接受。

另据韩媒 Business Korea 报道，三星电子正计划通过在未来三年内打造 2 纳米 GAA(Gate-all-around)工艺来追赶台积电

随着 0.55 NA EUV 光刻机量产提上日程，芯片厂商的“2nm 工艺战”也将彻底打响

为什么要冲刺高 NA EUV 光刻机？光刻系统所能达到的分辨率是光刻收缩的主要驱动因素之一，它主要由所用光的波长和光学系统的数值孔径决定

更短的波长可以打印出更小的特征；更大的数值孔径可以更紧密地聚焦光线，也能够带来更好的分辨率

除了设备过于昂贵之外，EUV光刻机的耗电量也是剧增，据悉台积电的耗电量占中国台湾省衡耗电量比例达到8%，如果引入第二代EUV光刻机，预计耗电量将进一步上涨，不知中国台湾能否撑得住，昂贵的电费让台积电已逐渐难以承受，这都导致采用光刻机的芯片制造工艺成本昂贵

读盘速度：读盘速度挺快的，稳定性很好 读盘声音：目前感觉声音比较正常，算是比较安静的 稳定性能：性能稳定不会飞盘 轻薄程度：普通的标准大小吧 外形外观：整体外观密闭性挺好，材质看着也很不错 产品包装：包装设计觉为艺术规范很结实

送货非常快，上次买了刻录光盘，这次配套购买刻录机，先锋经典老品牌，支持DVD/CD读写，是数据备份，影音，学习的好帮手。

面对芯片技术的新进展，中国其实在量子芯片技术方面也并不落后，中国庞大的技术人员有助于中国在量子芯片技术方面加快赶超美国芯片的进展，这两年中国已取得了不少量子芯片技术专利

今年7月中科大的郭光灿教授团队就宣布首次在拓扑保护光子晶体芯片中实现量子干涉，奠定了中国量子芯片的基础，此外还有诸多芯片企业在量子芯片技术方面持续投入，深圳科技企业就宣布了多项量子技术专利

ASML 官宣新一代光刻机研发进展

用于大批量制造，以创建先进的微芯片（7 nm、5 nm 和 3 nm 节点）高度复杂的基础层，并支持新颖的晶体管设计和芯片架构

日前，在 2022 SPIE 高级光刻会议上，ASML 介绍了 EUV 的最新进展

根据 ASML 最新消息，新款 EUV 光刻机正在研发中，NA 将从 0.33 增加到 0.55（NA 是光学系统的数值孔径，表示光线的入射角度），2nm 工艺的芯片都将依赖其实现

在今年 6 月 17 日举行的技术研讨会上，台积电研发高级副总裁米玉杰表示：“展望未来，台积电将在 2024 年引入高数值孔径的极紫外（高 NA EUV）光刻机，为的是开发客户所需相关基础设施和模式解决方案，进一步推动创新

另据韩媒 Business Korea 报道，三星电子正计划通过在未来三年内打造 2 纳米 GAA(Gate-all-around)工艺来追赶台积电

随着 0.55 NA EUV 光刻机量产提上日程，芯片厂商的“2nm 工艺战”也将彻底打响

中国研究光刻机的企业

物流速度很快，当天就到货了。性能也不错！十几年前的刻录盘都能读出来！！以前买过，用了很多年，突然不好了，干脆再买个新的吧！性价比很高！

ASML 共售出 136 台 EUV 光刻机在 2022 SPIE 高级光刻会议上，ASML 也披露了 EUV 光刻机的出售数据