ASML 官宣新一代光刻机研发进展
挺好用的，多了一根电源线，对功率小的笔记本很有好处，刻录速度不错，不易刻录失败。好用。白色颜值很高
我们这个月还收到额外的 EXE:5200 订单
我们目前已有来自三个逻辑芯片和两个存储芯片客户的高 NA 订单
EXE:5200 是 ASML 的下一代高 NA 系统，将为光刻技术的性能和生产力提供下一步的发展
在今年 6 月 17 日举行的技术研讨会上，台积电研发高级副总裁米玉杰表示：“展望未来，台积电将在 2024 年引入高数值孔径的极紫外（高 NA EUV）光刻机，为的是开发客户所需相关基础设施和模式解决方案，进一步推动创新
刻录机现在很少用到了。价格也是超便宜。买一个来读一些以前的碟。小孩的巧虎也能播一下。还没试用，应该都没啥问题的了。先锋的刻录机以前一直用。没想到现在还在卖，和索尼两分天下。图它比索尼便宜20块，选了先锋。送了一条sata数据线，挺好的。
为什么要冲刺高 NA EUV 光刻机？光刻系统所能达到的分辨率是光刻收缩的主要驱动因素之一，它主要由所用光的波长和光学系统的数值孔径决定
更短的波长可以打印出更小的特征；更大的数值孔径可以更紧密地聚焦光线，也能够带来更好的分辨率
很满意的一次购物，商家服务好，发货神速，物流也很给力，宝贝收到后非常喜欢，买得放心，用得安心当时买的时候还在犹豫价格，买来之后一点都不后悔，而且物流还快，可以入手
一直用先锋刻录机，非常满意的一次网购 读盘速度：快 外形外观：好 稳定性能：好 轻薄程度：-好 产品包装：好 读盘声音：非常小
做工很好，十年前买的先锋刻录机有点光头老化，再买一个用，完美，非常满意！京东物流就不用说了，快！光驱手感好，整体轻薄，使用时声音小，速度快，非常好用的一款！
用于生产 2nm 芯片的 ASML 新款光刻机预计在 2025 年首次投入使用，对芯片厂商而言，“2nm 工艺战”已经打响
ASML 冲刺 0.55 NA EUV 光刻机对于芯片厂商而言，要想发展先进制程，光刻机是关键设备
读盘速度：非常不错！ 读盘声音：声音小！ 产品包装：包装不错！ 外形外观：外观好看！ 稳定性能：稳定好！ 轻薄程度：合适！
点单位光盘。以前就用的先锋的。品质非常好，用了好多年了，所以这厮继续购买。商品应该不错。待会儿去试用，用好了再来评价。希望这个产品也好，哪，有一些优惠活动。这样。可以在购买很多。另外价格教师再降点就好。
光刻机耗材
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未来比 3nm 更先进的工艺，将极度依赖高 NA EUV 光刻机
ASML 首席执行官 Peter Wennink 表示：在高 NA EUV 方面，我们取得了良好的进展，目前已经开始在我们位于维尔德霍芬的新无尘空间中打造第一个高 NA 光刻