滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

读盘速度：快 读盘声音：小 稳定性能：相当好 轻薄程度：都是这个尺寸 外形外观：工艺精湛 产品包装：很好

中国的光刻机技术成果目前中国自主研研制的90nm光刻机已经商用，并且已经成功攻克DUV浸润式光刻机的主要技术；上海微电子研制的28nmDUV光刻机，就可以用来进行14nm芯片的生产

别看这14nm好像还差得远，要知道，平时我们虽然听什么14nm、7nm甚至是3nm听多了，对芯片的技术失去了概念，但其实只要跨过 28nm制程这道难以逾越的墙壁，那就算是排在世界尖端的水平了

关于光刻机光刻机项目背景

稳定性能：不错 读盘速度：很快 外形外观：还好 轻薄程度：适中 产品包装：精美 读盘声音：很轻

曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有泵灯，准分子激光器等

近日有国内企业公布了一项关于光线折射等的EUV光刻机专利，这对于国内光刻机产业一直努力的EUV光刻机技术无疑是重大的突破

目前EUV光刻机仅有ASML一家企业可以生产，而ASML深受美国的影响，在美国的影响下导致ASML无法自由出货EUV光刻机，这也成为中国芯片制造的最大障碍