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光刻机_雕刻机_曝光系统

关于光刻机光刻机项目背景

关于光刻机光刻机项目背景

稳定性能:不错 读盘速度:很快 外形外观:还好 轻薄程度:适中 产品包装:精美 读盘声音:很轻

曝光光源波长分为紫外深紫外和极紫外区域,光源有泵灯,准分子激光器

近日有国内企业公布一项关于光线折射等的EUV光刻机专利,这对于国内光刻机产业一直努力的EUV光刻机技术无疑是重大的突破

目前EUV光刻机仅有ASML一家企业可以生产,而ASML深受美国的影响,在美国的影响下导致ASML无法自由出货EUV光刻机,这也成为中国芯制造的最大障碍

轻薄程度:比想象中薄,很轻便 外形外观:黑色一体,很漂亮 产品包装:包装很严实 稳定性能:刻录稳定,未失败过 读盘速度:读写速度很快,和介绍一样 发货速度很快,很满意的一次购物。满足预期

噪音不大,刻录速度也很快,做工很精细,非常好,买一个放在手边刻盘很方便,美中不足没有赠送保护包,携带有些不方便。

关于光刻机光刻机项目背景

光线折射技术就是光刻机的核心技术之一,从90nm工艺以来,DUV光刻机所采用的光源都是193nm的光源,而EUV光源则是13.5nm,通过在水等介质的多次折射得到相应波长的光线,从而实现了以193nm光源生产65nm至7nm工艺、13.5nm光线实现7nm至2nm的工艺,而这家企业公布的光线折射技术恰恰解决了光刻机的关键技术

国产的光刻机已形成了一条完整产业链条,成为全球唯一拥有光刻机全产业链的经济体,双工作台光学系统物镜系统、光源系统方面都已有相关企业研发成功如今国内企业在光线折射技术方面的突破,无疑将补上最后的短板,期待国产光刻机的量产

这就是光刻的作用类似照相机照相

照相机拍摄的照片是印在纸片上,而光刻刻的不是照片,而是电路图和其他电子元件

光刻机就是将光罩上的设计集成电路图形通过光线的曝光印到光感材料上,形成图形

光刻机性能指标光刻机主要性能指标有:支持基片的尺寸范围,分辨率对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率

这样的技术不仅可以用于DUV光刻机,还可以用于EUV光刻机

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