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也就是说，美国政府不但不想让中国在高端芯片领域取得重大突破，同时还想限制中国中低端芯片的产能

二是防止中国的光刻机技术取得突破，众所周知，一般一项技术的发展，遵循循序渐进的原则，也就是从落后到先进，光刻机的发展也是如此，阿斯麦公司现在最先进的EUV光刻机也是一代一代升级而来的

今年7月，彭博社曾援引知情人士的消息称，美国正在向荷兰政府施压，要求扩大目前的对华出口限制范围，禁止ASML对华出口部分DUV光刻机

知情人士同时表示，荷兰政府至今尚未同意对ASML的对华出口施加任何额外限制，认为如果实施美方要求的措施，可能会损害荷兰与中国的贸易关系

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第二次买了，上次5个，这次又为单位上买了5个，上次买的评价比较好，读盘能力强，刻盘很稳定，国产品牌中很不错的产品，现在用光驱的时候越来越少，外置光驱价格也降了不少，有时要用的时候又找不到，常备几个以备不时之需。

曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有泵灯，准分子激光器等

近日有国内企业公布了一项关于光线折射等的EUV光刻机专利，这对于国内光刻机产业一直努力的EUV光刻机技术无疑是重大的突破

目前EUV光刻机仅有ASML一家企业可以生产，而ASML深受美国的影响，在美国的影响下导致ASML无法自由出货EUV光刻机，这也成为中国芯片制造的最大障碍

光线折射技术就是光刻机的核心技术之一，从90nm工艺以来，DUV光刻机所采用的光源都是193nm的光源，而EUV光源则是13．5nm，通过在水等介质的多次折射得到相应波长的光线，从而实现了以193nm光源生产65nm至7nm工艺、13．5nm光线实现7nm至2nm的工艺，而这家企业公布的光线折射技术恰恰解决了光刻机的关键技术

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好久不用光驱了，特殊用途还是有必要的。而且这个性价比比较高 产品包装：这个包装很大气啊，盒子也很大，里面是再生原料减震，看着不错。 外形外观：外观简洁大方，成熟稳重 轻薄程度：正常尺寸的三围 读盘速度：速度平稳，读盘不错 读盘声音：声音还好 稳定性能：目前稳定

10月上旬老美出新规，禁止将使用美国设备制造的芯片，销售给中国

读盘速度：读盘速度挺快的，稳定性很好 读盘声音：目前感觉声音比较正常，算是比较安静的 稳定性能：性能稳定不会飞盘 轻薄程度：普通的标准大小吧 外形外观：整体外观密闭性挺好，材质看着也很不错 产品包装：包装设计觉为艺术规范很结实

而能达到要求的技师少之又少，连拥有175年历史的蔡司，达到光刻机镜头生产标准的技师也仅有20人

目前，由蔡司生产的最新一代EUV光刻机反射镜，能够做到最大直径1.2米，面形精度峰谷值0.12纳米，表面粗糙度20皮米

这是什么概念呢？如果把镜头放大到地球那么大，它上面只允许有一根头发丝那样的凸起，这可能是宇宙中最光滑的人造物体了

这种外置光驱非常好用，买来刻录cd用的，用完可以带走。非常好的一款刻录机，大品牌，值得信赖，而且这个也比较专业吧！

尽管光刻机这种设备非常之重要，可是能够生产光刻机以及配件的国家却是屈指可数的，正因为如此美国在能在今天发挥自己产业链主导的地位，来制裁俄罗斯，防止俄罗斯依靠高端芯片来扩充自己的军备力量，这让俄罗斯不得不选择了自主化生产光刻机的道路，于是俄罗斯宣布将自主研制7nm光刻机，还表示将在2028年投产，这一度令不少西方国家大感惊讶

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美国能发明光刻机吗

资料显示，EUV光刻机采用波长为13.5nm的激光等离子体光源作为光刻曝光光源

使其波长达到193nm的1/14，几乎逼近物理学、材料学以及精密制造的极限，将最小工艺节点推进至7nm

全球首台EUV光刻机原型说到这，可以看出光刻机一路的发展其实都算是在挑战“极限”，不断靠近最小工艺节点

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得不到国外的先进光刻机，就只能自力更生，争取制造出国产光刻机

据悉，经过国内科技工作者以及相关企业的努力，中国在光刻机以及周边相关的卡脖子技术领域取得了一系列突破

面对中国取得的成就，西方国家和企业不是理性地看待，而是又打起了打压的念头

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中国22纳米光刻机突破

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ASML的EUV光刻机时代正在落幕

台积电是ASML的第一大客户之一，更是EUV光刻机的主要买家，在台积电给了ASML一记重锤之后，ASML一直顺从的美国却又给了它一记重锤

美国芯片企业美光表示绕开EUV光刻机研发的10nm级别的1β工艺提升了存储密度30%，而功耗降低了20%，更重要的是成本大幅下降，这主要是因为EUV光刻机比美光现在采用的EUV光刻机贵了2-3倍

ASML的EUV光刻机

过去的这许多年，有众多的企业都想替代ASML，比如尼康、佳能，甚至还有上海微电子，大家都在光刻机上发力，想推出EUV光刻机，甚至换一个方向，用另外的技术来实现EUV光刻机的功能，但暂时都没有成功

如上图所示，这是ASML光刻机产业链中的主要核心部分，分国上、中、下游三个部分

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