中国市场已是它最后的救命稻草
当前有能力采用价格昂贵的EUV光刻机的客户其实只有Intel、台积电和三星,它们目前推进的最先进工艺为3nm,然而台积电的3nm被指在性能参数方面远未达到预期,这已导致苹果放弃了3nm,迫使台积电进一步改良3nm工艺至N3E
上海微电子光刻机视频
原来一直用的三星刻录机,用了几年了,不行了,刻不出来了。换了这个,之前发现有不少差评,有些犹豫。换了以后,发现速度快,声音很小,性价比超高。值得购买。
随着光刻机变得更加负责,光刻机的耗电量也在激增,业界人士指出High-NA EUV光刻机的总功耗将达到200万瓦的水平,每天耗电量将达到4.8万度电;如今台积电仅是推进至5nm工艺,它消耗的电力已占中国台湾省的8%,业界预期推进至3nm之后它消耗的电力将占中国台湾的12%