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光刻机_雕刻机_曝光系统

中国上海微电子装备光刻机,光刻机巨头阿斯麦CEO:中国不太可能独立造出顶尖光刻机

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路线图来看,TWINSCAN EXE:5200预计最快2024年底投入使用,2025年开始大规模应用于2nm甚至以下先进制程生产

国外曾有分析师直言,“我敢打赌,英特尔为这一权利花了很多钱,因为他肯定不是唯一想先得到这种机器的公司”

不过,温彼得表示,该公司可能需要两到三年才能实现供需平衡

随着新工厂的建设,到2025年或2026年,全球半导体行业甚至可能出现“某种程度的供过于求”

单从四季度来看,阿斯麦实现营收50亿欧元,净利润18亿欧元,毛利率达到54.2%;新增订单金额71亿欧元

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光刻机巨头阿斯麦CEO:中国不太可能独立造出顶尖光刻

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与目前的0.33 NA EUV光刻机相比,0.55 NA光刻机可以显著提高良率、降低成本和缩短生产周期

当然,0.55 NA光刻机的价格也相当昂贵每台售价约为3亿美元(约合人民币19亿元),比0.33 NA光刻机售价高出一倍

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纵观全年,即使考虑到目前6个EUV系统快速出货相关收入将转移至2023年,该公司2022年的营收增长仍将达20%左右

但这个说法遭到中国台湾半导体分析师陆行之的质疑

因为既然是快速出货,理论上应该也是快速或准时付款,但现在阿斯麦快速出货却被延迟付款,怎么解释都显得很奇怪

中国上海微电子装备光刻机

中国上海微电子装备光刻机,光刻机巨头阿斯麦CEO:中国不太可能独立造出顶尖光刻机

台媒报道截图 在发布本次财报前,阿斯麦柏林工厂曾发生火灾

TrendForce集邦咨询向观察者网提供的一份报告显示,阿斯麦德国柏林工厂火灾对晶圆代工及存储器而言,将可能对EUV光刻机设备制造产生较大影响

而根据该机构掌握的信息,阿斯麦所需零部件亦不排除通过其他厂区取得,加上目前EUV设备交期相当长,因此实际对EUV供应的影响仍有待观察

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