《极紫外光刻光源的研究进展及发展趋势》论文中引用的长春光机所极紫外多层膜研究工作极紫外光刻胶研究进展极紫外光刻胶《极紫外(EUV)光刻胶的研发》一文的作者杨国强教授和李嫕教授,分别在中国科学院光化学重点实验室和中国科学院理化技术研究所带领团队开展极紫外光刻胶开发
极紫外光刻光源论文:上海光机所和上海大学微电子学院合著极紫外光刻光源光机所和上海大学微电子学院合著《极紫外光刻光源的研究进展及发展趋势》一文,其中不仅详细介绍了ASML和日本Gigaphoton的EUV光源进度,还介绍了上海光机所2021年前后的EUV光源的液锡系统的几篇专利