《极紫外光刻光源的研究进展及发展趋势》论文中引用的长春光机所极紫外多层膜研究工作极紫外光刻胶研究进展极紫外光刻胶《极紫外（EUV）光刻胶的研发》一文的作者杨国强教授和李嫕教授，分别在中国科学院光化学重点实验室和中国科学院理化技术研究所带领团队开展极紫外光刻胶开发
极紫外光刻光源论文：上海光机所和上海大学微电子学院合著极紫外光刻光源光机所和上海大学微电子学院合著《极紫外光刻光源的研究进展及发展趋势》一文，其中不仅详细介绍了ASML和日本Gigaphoton的EUV光源进度，还介绍了上海光机所2021年前后的EUV光源的液锡系统的几篇专利
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解读光刻机困局之2022(三):目前国内光刻研究的整体进度评估中国光刻机新消息
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上海光机所主办一个国内核心期刊《激光与光电子学进展》，其中基本涵盖我国激光、光学的主要进展和成果介绍
《激光与光电子学进展》在2022年5月10日出版了专题《光刻技术》，几乎涵盖了我国光刻研究的全面资料
这期的封面便是DUV光学曝光系统的示意图
以便更多的读者可以从更系统、更全面的角度去了解我在这个系列撰文里所提出的观点及论述
光刻机运动台控制上海光机所的《激光与光电子学进展》众所周知，上海光机所是我国先进激光技术的顶尖研究单位之一，我曾经在前文详细介绍过上海光机所的极紫外光刻光源相关研究工作
外包装没有温謦提示封条。读盘还快，刻录dvd光盘5分多就刻好了。包装完整，安装方便，装好以后读盘速度很快，很不错的一个光驱，值得购买
当然，我们在中国的光刻机困局的讨论仅限于核心部件