滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

编者按：公众比较熟悉的光刻机代差是基于193纳米光刻光源的干式DUV和浸液式DUV

而浸液式DUV光刻，可以通过多次曝光获得7纳米节点的能力

明确这些技术代差，有助于讨论和思考我国的光刻机发展方式和组织模式

这款光源对应上图的位置是1994年

当然，我们不能把1994年当作技术差距的时间点

读盘速度：很快哦 读盘声音：很小哦，静音呢 轻薄程度：一般哦 外形外观：很靓哦，总体满意

可以的，外观漂亮且做工不错很结实，质量应该不错。用PowerDVD播放蓝光原碟很顺畅，画质也不错。刻录了一张25G和50G的蓝光碟，都刻录得很顺利。刻录的数据是之前自己收藏的蓝光原碟用笔记本蓝光BD-ROM光驱抓轨的iso镜像，刻录完后塞到客厅的蓝光影碟机里播放也很顺畅。作为Hi-Fi影音发烧友，也是先锋这品牌的老用户，设备里有三台还在服役且音质很发烧的先锋黑胶唱机、磁带卡座和LD影碟机，一直以来这三台老设备质量都很皮实且没出过故障。没用过先锋蓝光刻录机，这次买了台功能齐全又档次高点的，希望先锋的品质能一直如一，希望这蓝光刻录机的质量也能和那几台老设备一样不出故障长久用下去！ 哦对，顺便吐槽一下。收到后发现包装没有封条，虽然里面的保护膜没被动过且包裹刻录机本体的塑料纸完好，但真的挺容易会被认为是非全新（看了保护膜和螺丝孔，是全新的没问题，放心买吧）。此外，也不送个SATA数据线也是有点抠门，开始还以为是在包装盒里，然后发现包装盒里也没有…简直。还好手上有多的SATA数据线。这个希望注意一下，一条SATA数据线没多少钱就别抠门了，给来买刻录机的配一条主要也是方便买家。

先锋这个品牌也算是小时候就有的记忆吧。这次自己趁618搞活动，自己组装了一台电脑。我自己偶尔会用到光盘，所以组装电脑的时候比较在意光驱。比来比去选了先锋光驱。用了一段时间了，功能一切正常。读取速度很快。满意。京东快递也很给力。第二天就到货了。点赞。

很显然，这两次迭代，将使得摩尔定律被延长至2032年

在中文舆论里，前者便是铺天盖地的所谓“28nm”光刻机；后者便是所谓“7nm”光刻机

半导体产业40年的发展路径经严格考证的国产光刻机光源进度而在我2021年10月份的考证里，国产DUV光源的测试计划是248nm的KrF DUV激光器，因此实际上这一款激光器并没有进入批量生产的阶段

中国准分子激光DUV光刻光源测试原始记录关于国产DUV光刻光源的考证原文：解读中国28nm光刻机（一）:深紫外DUV光刻机光源的曙光结语在上述关于光刻机代差分析里，我们剥离出未来十年的2代代差和过去十年的3代代差，而这正对应于我国的光刻机研发工作的针对目标：1，在过去十年的既有技术上的突破，显而易见，自2019年开始国际形势突变之后，我们不再具有轻易获得西方的成熟技术、并依托其上进行迭代式发展的模式

收到货好几天了，在用这款writer，感觉还不错，已经刻了一张，性能不错，而且方便携带，包装还好，物美价廉的好商品！

使用方便，安装简单，调配容易，效果不错，非常好用，商品很好很不错，性价比很高，物美价廉，非常好的一次购物体验

编者按：公众比较熟悉的光刻机代差是基于193纳米光刻光源的干式DUV和浸液式DUV

而浸液式DUV光刻，可以通过多次曝光获得7纳米节点的能力

明确这些技术代差，有助于讨论和思考我国的光刻机发展方式和组织模式

2005年论文：美国加州伯克利劳伦斯实验室的NA0.3的MET工具在这篇论文里，我们可以清晰的看到MET工具CAD模型，它主要包括两个部分：1，从上部的同步辐射光源系统（From synchorotron）经过一个扫描单元传递至曝光装置；它相当于EUV光刻机的EUV光源系统；2，MET曝光系统主要包括从上到下的4个部分：光罩台、投影光学系统、晶圆台、照明台

先锋品牌、质量保证、一直都在用。第一个用了三年，现在是第二个，给力好评五星?！很好的购买平台，质量不错，特别是有品牌的，值得信赖

这款光源对应上图的位置是1994年

当然，我们不能把1994年当作技术差距的时间点

例如不排除同步开发的193nm的ArFDUV光源也已经进入光刻机厂商的测试环节；亦即达到193nm浸没式光刻水平，那么对应上图的位置是2005年左右

上海大学光刻机

编者按：公众比较熟悉的光刻机代差是基于193纳米光刻光源的干式DUV和浸液式DUV

而浸液式DUV光刻，可以通过多次曝光获得7纳米节点的能力

明确这些技术代差，有助于讨论和思考我国的光刻机发展方式和组织模式

先锋光驱很薄，轻巧；读取速度快 ，也很安静，使用简单，方便，值得拥有。读盘速度：快稳定性能：好外形外观：不错京东送货很快，是正品，读碟声音少，速度大，满意好评。

比利时IMEC实验室公布2纳米以下制程量产时间节点首台高NA光刻机将入驻IMEC-ASML联合实验室IMEC和ASML的联合实验室将在2023年安装第一台高NA EUV光刻机系统；这是近十年光刻机发展历史上的一个里程碑的进展

刚收到了就使用，非常好用，接上就能用，方便好用，质量保证。物流给力。宝贝性价比很高，质量做工很好，安装简单方便，接口兼容性比较好，推荐购买!

一个 6 英寸的 EUV 光掩模结语20年前，ASML的一台ADT工具，便坐落在纽约州立大学理工学院，也就是帕特里克·诺洛（Patrick Naulleau）当时工作的单位

这套价值6500万美元的设备信息，至今仍然挂在纽约州立大学理工学院（SUNY POLY）的主页，这里曾经是世界EUV光刻技术的研发先驱

王丽萍教授2007年论文设计的2镜头MET曝光光学系统在这篇论文结尾，王丽萍写道：“根据我国现阶段的技术基础和研究目标，两镜微缩投影系统的研究仍为重点”

先锋的刻录机非常好，老品牌了，以前就经常使用，质量好，价格实惠，非常满意，快递非常快！

读盘速度：非常好 产品包装：简单便捷 外形外观：大气耐看 读盘声音：还可以 稳定性能：新的

先锋的光驱，一直都很信赖，以前读书的时候配的电脑的光驱就是先锋，到现在20年过去了，还能用，所以这次依然决然选择先锋。作为光驱的行业领导者和老品牌，果然不负所望，读盘速度快，低音甚至无音，轻薄程度刚好，外形外观简约大方，产品包装和物流包装双重保护，产品包装严实，非常好！