华为购买荷兰光刻机
High-NA EUV 是下一代光刻设备,与现有的 EUV 光刻设备相比,可以雕刻出更精细的电路,其被认为是一个改变游戏规则的设备,将决定 3 纳米以下代工市场技术竞赛的赢家
High-NA EUV 光刻设备的单价估计为 5000 亿韩元(约 25.85 亿元人民币),是现有 EUV 光刻设备的两倍
ASML 首席执行官 Peter Wennink 表示:“一些客户在某些消费者驱动的细分市场中显示出需求放缓的迹象,但我们仍然看到对我们系统的强劲需求
虽然我们仍计划在今年交付创纪录数量的系统,但供应链限制的增加导致出现了延迟
ASML 公告还透露,公司的 EUV 高 NA 业务中,已收到了来自供应商的第一台高 NA 机械投影光学器件、光源以及新的晶圆载物台
这些模块将用于初始测试和集成,这是 EXE:5000 程序的重要一步
此前据 BusinessKorea 报道,三星已就引进今年生产的 EUV 光刻设备和计划于明年推出的高数值孔径(High-NA)EUV 光刻设备达成了协议
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ASML 下一代 EUV 光刻机启动:单价 26 亿元
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ASML 表示,利润率受到了通胀成本上升的影响,此外,一些系统在荷兰进行全面测试之前就向客户发货,导致了延迟确认收入,从而影响了收益
IT之家了解到,ASML 主导着光刻系统市场,客户包括所有主要芯片制造商,其中台积电、三星和英特尔是几大重要客户
稳定性能:非常稳定 读盘速度:速度快 读盘声音:无噪音 外形外观:精致美观 轻薄程度:轻薄
ASML 公告称,截至 6 月 30 日的三个月,公司收入为 54.3 亿欧元(约 374.67 亿元人民币),高于 2021 年同期的 40 亿欧元;净利润为 14.1 亿欧元(约 97.29 亿元人民币),高于去年同期的 10.4 亿欧元
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